磁控溅射工艺影响氧化锌薄膜的晶体结构的研究.pdfVIP

第五届全国光子学大会会议论文集 第七分册：其它 磁控溅射工艺影响氧化锌薄膜的晶体结构研究 1，2 1 3 2 潘志峰 ，袁一方 ，宋连科 ，吴涛 （1.上海理工大学光电学院，上海 200093 2. 济宁医学院物理教研室，山东 济宁 272013 3.曲 阜师范大学激光研究所，山东 曲阜 273165） 摘 要：氧化锌薄膜作为一种多用途的半导体材料，一直受到国内外学术界的广泛关注，高质量的 ZnO 薄膜在光电子技术中将得到广泛的应用。本文利用磁控溅射方法制备了性能较好的ZnO 薄膜， 通过改变各种工艺因素，从而改变薄膜生长参数，讨论生长参数对薄膜晶体结构的影响。 关键词：ZnO 薄膜；磁控溅射；X 射线；生长参数 0 引 言 短波长激光、发光二极管等光电子器件一直是人们关注的研究课题。因为它在光通讯、光存储、 信息处理、激光打印、激光显示等领域具有重要的应用价值。 氧化锌是一种具有六方结构的自激活宽禁带Ⅱ-Ⅵ族半导体材料，室温下带隙宽度为 3.37eV。