氰化物光亮镀铜与代镍合金电镀的研究.pdfVIP

第120贞 、2002江浙沪首届城市电镀技术交流会论文集 氰化物光亮镀铜和代镍合金电镀的研究 李家柱胡岩松 温十hi美龙化工原料有限公司(325004) 【摘要】本文介绍了高效率、高韧性、全有机光亮荆和代镍舍金电镀工艺的研究。本文讨论的碱铜90 和碱铜99光亮刑，能够大幅度提高铜镀的沉积速度，同时具有较高的光亮度，特别是碱拥99光亮荆能镀出镜 面镀层，经济效益显著。 本文讨论自亮代镍台金电镀工艺获得的代镍镀层具有镍镀层的金属色泽和硬度并且无脆 性，在眼镜架和打火机等工件上已得到应用。一元化固体二氧化氯型破氰灭菌水处理剂操作 简便，破氰灭菌效率高、不产生氯化烃，是世界卫生组织推荐的绿色环保产品。 l前言 氰化镀铜工艺是我国电镀行业量大面广的传统工艺，但在电镀时由于存在电流效率低， 沉积速度小，镀层光亮性差，镀层易起毛刺等问题，不能满足生产上的要求。为了解决这个 问题，国内许多科研单位、大专院校都进行了氰化镀铜光亮剂的研究。国内研制的氰化镀铜 光亮剂一般含有金属无机盐，消耗快，工艺控制困难，添加剂加多了脆性大，加少了不亮。 从国外引进的发达国家产品，也存在操作复杂，添加量大，价格昂贵等问题。碱铜90光亮剂 实现了有效成分的全有机组成，同时兼有电流效率高，沉积速度快，镀层光亮、致密、高韧 性、无脆性、工艺范围宽，操作简便、槽液易于维护等特点，因此采用该项工艺可以降低铜 镀层的空隙率，提高抗蚀性能，大幅度提高产品的合格率，并可达到厚铜薄镍，降低成本的 目的。此外，本项工艺还解决了防渗碳镀铜电流效率低、沉积速度小的问题，使防渗碳镀铜 的沉积速度3～4倍。新一代碱铜99光亮剂，在保留碱铜90全部优点的基础上，使镀层的光亮 性达到了镜面，温度范围也进一步放宽，在35’C就能获得光亮镀层，而且易于清洗，便于操 作。 由于镍金属对人体皮肤有刺激作用，国际上对于环境保护的要求越来越高，我国出口的 日用产品如眼镜、手表带和打火机等都要求采用代镍镀层。利用BN一20代镍铜锡合金光亮剂获 得的代镍镀层光亮性能与光亮镍类似，硬度接近镍镀层，而且韧塑性能良好。本文将简单介 绍BN20代镍铜锡合金光亮剂的研制和使用方法。 2试验方法 2．1光亮剂的合成。采用常规卤代和加成，进行有机化合物的合成制备碱铜99光亮刹中间体 和BN-20代镍铜锡合金光亮剂中间体，然后通过其他有机分散剂、润湿剂和杂质容忍剂等配备 市售光亮剂。 2．2标准霍尔槽试验法。 2．3挂镀试验， 2002江浙沪首届城市电镀技术交流会论文集 第121页 2．4滚镀试验。 2．5槽液性能试验， 2．6镀层性能试验， 2．7孔隙率检测。 2．8热处处理试验 3工艺条件 成分 含量(g／L) 成分 含量(g／L) CuCN 55～65 镀铜99光亮剂8～12ml Na2COa 15～30 T 35～55℃ I(NactHa06．4H20 Dk l～25A／dm2 NaCN 70～85 阴阳极面积比 l：(2．0～2．5) NaOH 8～15 阴极移动周期换向 需要 4试验结果及分析 4．1光亮剂的合成镀铜99光亮剂的有效成份均为有机物，不含铅盐等金属无机盐，从而保 证了镀层具有良好的韧塑性能和较宽的添加范围。 4．2霍尔槽试验 采用轻研一3型霍尔槽实验仪测量上述槽液的光亮电流范围，lA电流的霍尔槽试片可达到 个片光亮：2A电流的霍尔槽试片在7A／din2以下的电流密度区域镀层为镜面光亮镀层。 4．3槽液性能试验 (1)电流效率：采用DNH—A型磁性测厚仪对不同厚度的镀层进行测试。试验结果见表l 表1 电流密度(A／dm2)电镀时间(min)镀层厚度(LIIII)每小时镀层厚度(um)电流效率(％) 备注 1．0 2