中国集成电路设计业发展现状及热点趋势_AartdeGeubs.pdfVIP

业界风云 INDUSTRY TRENDS 中国集成电路设计业 发展现状及热点趋势 ■ Aartde Geubs [摘要] 集成电路设计采用的28纳米(含32和28纳米)工艺的芯片流片在数量上突破了500 家，28纳米成为了当前数字芯片的主流工艺。下一代的工艺进展如何？20纳米和14纳米 哪个会更适合？ Synopsys Chairmanco CEO Aartde Geubs博士的专业见解值得中国半导 体产业业者细细体会。 [关键词] 集成电路 设计 Synopsys [中图分类号] TN402 [文献标识码] B [文章编号] 1674-2583(2014)08-0012-02 说一件有意思的事，我刚刚与业界巨头英特 尔的高层聊天，他跟我谈起了新一代的16/14纳 米、10纳米甚至是7纳米的工艺。事实上我其实已 经知道这些了，因为我们的几个技术专家已经与