高性能铁磁性薄膜电子能谱研究.pdfVIP

高性能铁磁性薄膜的电子能谱研究 于广华夏洋朱逢吾肖纪美 (北京科技大学材料物理100083) 方光旦宋庆山熊鑫恩 (中国科学院计算所100080) 捕要；用X光电子能谱对磁控藏射法制备的饫磁性薄膜表面及氧化深度进行了分析． 关键词t巨磁电组薄膜x光电子骺谱 一、引 言 了全世界的轰动。在随后的几年中，有关巨磁电阻效应应用的研究接踵而至，从超高密度磁 盘读出磁头的制作，到磁电阻型随机存储器(MRAM)的研翩．直至全金属自旋晶体管和全 金属计算机的探索o】。 巨磁电阻，它们的室温磁电阻变化Z、R／R分别为30％“3和18蟛“]，相对较高而具有应用前 景。由于单层Fe磁性薄膜的矫顽力(Hc)直接影响到Fe膜构成的磁性器件的外加饱和场。 的Fe磁性膜。 二、实验过程 LDJ9500)测Fe膜的磁性能。甩x光电子能谱(MICROLABMKI)分析膜表面成分和垂直 膜面成分分布，选用Mg靶做X射线源，分析室真空度为5XIO