钙钛矿结构铁电簿膜光学性质研究.pdfVIP

钙钛矿结构铁电薄膜的光学性质研究 杨平雄褚君浩 (中国科学院上海技术物理研究所，红外物理圃．寐重点实验室．上海200083) 铁屯薄膜具有一系列重要性质．如高介电、铁电、压电、热释电和光电等特性．利用这些特性可制 长的极化寿命和好的电学性质等…．这一发现引起了世界各圆的极大关注，使SBT薄膜成为铁电薄膜研究 中最热门的材料之一． 刚脉冲准分子激光沉积(PLD)法制备的SBT薄膜的电学性质．”‘但是对其光学性质的研究，到目前为止还 未见到文献报道．对薄膜的光学性质的研究有助于理解SBT薄月镕无疲劳、在亚微米(100nm)厚度下仍具有 体材料的优良电学性质等的微观机制，如H．N．AI—Shareef等人…研究了光照情况下SBT薄膜的电学性质． 提出了SBT薄膜无疲劳的微观模型． 本文研究了用PLD方法在低温石英玻璃衬底上制备的SBT薄膜的光学性质．ArF脉冲准分子激光器 (Lambda PhysikLPXl20icc，波长193nm)用来沉积SBT薄膜。其能量为160mJ。脉冲频率3Hz，通过 模。最终烧结而成，其直径为3cm．并以2r／min转速旋转．实验时．先抽真空至5Pa，然后通入纯氧气保 护气体．其流量为20cmI