超薄铝膜的制备和透光率的研究.pdfVIP

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中国机械工程第16卷增刊2005年7月 超薄铝膜的制备与透光率的研究 付光宗1 杨丰帆1 杨小红1’2 廖克俊1 刘高彬1 1.重庆大学,重庆,400044 2.重庆师范大学,重庆,400047 摘要:当铝(A1)膜的厚度在lOOnm时,可以作为一种光学薄膜使用。用这种超薄铝膜制成光学元件具有耐 激光以及损耗小等特点,在大功率激光系统中将得到应用。利用高纯铝靶,运用直流磁控溅射法制备了超薄铝 膜,利用双光束分光光度计研究了其光学性质,测试了超薄铝膜的制备条件,如X-作压强、靶基距、溅射时间等 对薄膜的光学性质的影响。得到了工作压强、靶基距及溅射功率与薄膜的光学性质之间的关系。 关键词:超薄铝膜;透射率;光学性质;直流磁控溅射 中图分类号:TB43 文章编号:1004一132x(2005)S1一0352一03 on Transmittanceon Study UItrathinAluminumFilm Property Fu Liao LiuGaobinl Guangzon91YangFengfanlYangXiaohon91’2Kejunl 1.ChongqingUniversity,Chongqing,400044 Normal 2.ChongqingUniversity,Chongqing,400047 thethicknessofaluminumfilmiS canbe Abstract:When below100nm,fine obtained.Forthead— opticalproperty of laserandlow ultrathin aluminumfilmcanbe in laser vantagesresisting ullage,the applied system.Ex— high—power trathinaluminumfilm made was ofa aluminum DCreactive 99.99%pure targetby sputtering.Thespec— magnetron was the trophometer tO transmissionof between and appliedanalyze spectrumsamples.Therelationshipspectrum as of and asthe conditions,such substrate,aswell timewere preparation pressure,dista

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