快速退火技术在磁交换偏置薄膜中的应用及展望.pdfVIP

快速退火技术在磁交换偏置薄膜中的应用及展望 周广宏，朱雨富，潘 旋 (淮阴工学院 江苏省介入医疗器械研究重点实验室，江苏淮安 223003) 摘 要：快速退火技术 (RTA)可在极短的时间内使器件表面升至高温，该技术被广泛运用在半导体制造 领域。综述了RTA的发展历程及其应用于磁性薄膜所取得的进展，并对RTA在磁交换偏置薄膜中的应用前景进 行 了展望。 关键词：磁性薄膜；快速退火；应用 中图分类号：0484．43 文献标识码：A 文章编号：1001—3830(2015)02-0074．04 Applicationofrapidthermalannealingtechnologyto exchangebiasmagneticthinfilms ZHOU Guang—hong，ZHU Yu—fu，PAN Xuan JiangsuProvincialKeyLaboratoryfo，lnterventionalMedicalDevices，