基于硅微加工技术的新型变形反射镜X.pdfVIP

　第 16 卷 　第 7 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 16 ,No. 7 　 　2004 年 7 月 HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Jul. ,2004 　 ( ) 文章编号 2004 基于硅微加工技术的新型变形反射镜 1 1 2 1 2 余洪斌 , 　陈海清 , 　张大成 , 　竺子民 , 　李 　婷 ( 1. 华中科技大学 光电子工程系 , 湖北 武汉 430074 ; 2 . 北京大学 微电子学研究所 微米/ 纳米加工技术国家重点实验室, 北京 100871) 　　摘 　要 : 　给出了一种基于硅微加工技术的新型变形反射镜的设计和加工方法 。变形反射镜镜面主体是 由一定厚度的硅膜构成,硅膜上表面溅射有一层 Ti/ Au ,背面有一 7 ×7 阵列的台柱与之相连 , 台柱下方是对应 的驱动电极。当给电极施加电压时 ,产生的静电力就会拉动台柱向下运动 ,从而使相应的镜面部分发生变形 ; 通过控制通电电极的位置及电压 ,就可获得特定的镜面形状。在变形反射镜的加工工序中采用浅腐蚀形成键 合台 ,采用深腐蚀加工出台柱。并采用 110 条补偿图形对台柱的凸角进行补偿 ,在 0. 2MPa 气压下进行键 合 ,最后成功研制出有效反射面积为 30mm ×30mm ,拥有 49 个静电驱动单元的变形反射镜。 　　关键词 : 　变形反射镜 ; 　体微加工 ; 　静电驱动 ; 　凸角补偿 ; 　阳极键合 　　中图分类号 : 　TN256 　　　　文献标识码 : 　A 　　变形反射镜是自适应光学系统中的核心组成部分之一[1 ,2 ] 。现有的几种变形反射镜大都采用材料的压电 效应进行驱动 ,驱动电压较高 ,响应频率较低 ,且体积庞大、成本高昂 , 因而目前大都只应用于大型地基天文望 远镜的自适应光学系统中[3 ,4 ] 。为了推广自适应光学的应用 ,急待解决的问题就是发展小型低能耗的变形反 射镜。近年来随着基于硅微加工技术 MEMS 领域的兴起 , 我们可以找到一个能很好地解决上述问题的途 径[5～7 ] 。本文给出了一种新型的硅基变形反射镜的设计思路 ,并对相关的加工步骤进行了优化。 1 　器件原理和设计 1. 1 　驱动方式及加工工艺的选取 　　在 MEMS 领域中有多种驱动方式 ,包括热驱动、磁驱动及静电驱动等 ,其中以静电驱动应用最广 ,因为其结 构实现容易、能耗较低且响应频率较高[8 ] 。这些特点正是我们在实际应用中所希望得到的 ,因而本设计采取的 是静电驱动工作方式。目前硅基微加工大致可分为两大类 :体加工和表面加工。就表面加工而言 ,它本质上是 一种“加法”工艺 ,即通过在硅上依次淀积不同的材料 ,最后通过释放来实现最终的结构 ,这时结构的主体是由 淀积材料构成的 ,硅此时充当衬底的作用。为了使释放能顺利进行 ,通常要在结构上预留一些释放孔 ,当光入 射到表面时 ,在这些孔的周围就不可避免地会出现一些干涉现象 ,从而使得光学性能变差。而体硅工艺是通过 去除硅片的一部分 ,来获得所需的结构 ,因而它可充分利用硅片良好的表面质量及出色的整体机械性能 ,获得 高性能的器件。 1. 2 　原理及设计 　　本设计中变形反射镜的结构如图 1 所示 。镜面主 体由一定厚度的硅膜构成 ,为提高反射率 ,通常溅射一 层 Ti/ Au ,在硅膜背面有一 7 ×7 阵列的台柱与其相连 , 台柱的下方是对应的驱动电极。当给电极施加电压 时 ,产生的静电力就会拉动台柱向下运动 ,从而带动相 应的镜面部分发生变形。通过控制通电电极的位置及 电压大小,就可获得特定的镜面形状。 　　这种结构的驱动原理可用最典型的平行板电容结 F