衬底温度与激光能量对激光制备类金刚石薄膜的影响.pdfVIP

2000年10月·广西·北海 第七属全国固体薄膜学术会议 衬底温度和激光能量对激光制备类金刚石 薄膜的影响 马玉蓉，沈维康．陈刚．王冠中．方容川 中国科技大学物理系，合肥230026 摘要用脉冲激光沉积(PLD)7‘j法制备出娄金刚石薄膜。利用P-mnlan谱研究了制备过程中衬 底温度和激光功率密度变化对薄膜性质的影响。结果表明．在实验所用的衬底温度范围之 内(室温．700C)和激光功率密度变化范围之内，对R丑rIlan解谱分析所得到的D．峰与G．峰 的积分强度之比(【。，【o)随衬底温度升高而增加，随激光功率密度的增加而减小。本文对 此进行了讨论。 一．引言 金刚石作为碳的一种同索异构体．由于其许多突出的特点，如高硬度，高热导，优良的 电绝缘性，报好的透光性等，将会成为2l世纪的新型功能材料【1]。而金刚石在自然界存 量有限。因此，人工制备金刚石也就成为众多研究者研究的热点。 到目前为止，人们已经探索出很多方法试图来生长金刚石．如各种CVD方法(如 CVD)。磁控溅射．等离子体放电，离子束淀积，电弧 HFCVD．RFCVD．plasma-≈ssisted 放电等。脉种激光淀积(PLD)是一种较新的方法．相比较而言．PLD方法可实现村底在 实温下制备金刚石膜，条件易控制．膜的成分可做到与靶材一致．容易达到较高的生长速 率(比如60rim／rain或者更高)．易掺杂．可实现异质外延生长多层膜等。与CVD方法相 比，PLD制备的膜中C／H可任意控制．甚至可无H生长。 直到现在．人们用PLD生长出的碳膜还不是严格意义上的金刚石．而是碳在低压亚稳 过程中出现的一个新的物相。它一般是非晶态的．但物性与金刚石相近，如高硬度，大光 学带宽．较大的折射率，电绝缘等。因此．通常披称为娄金刚石膜(DLC)[2-7]。 为了制备出性质较好DLC膜，对不同波长的激光．其光功率密度和村底温度有至关重 要的影响。目前，文献报道还未见有一致结论。我们用脉冲激光沉积(PLD)方法制备出类 金刚石薄膜。利用Ram∞谱研究了制备过程中衬底温度和激光功率密度变化对薄膜性质的 影响． 二．实验方法 实验所用激光器为Nd：YAG激光器。波长为532nm，激光脉冲频率为10Hz，脉冲宽度 硅片用超声研磨处理lO分钟． 保持靶与衬底之间的距离d=3cm．PLD成膜时间大约为30分钟，激光功率密度为 2．7x109Wlcm2．在保持其它参数不变的情况下，改变村底温度，分别取20℃(室温)、500C、 600℃、700℃、800℃，制备出变化树底温系列的薄膜。 保持靶与衬底之间的距离d=4．5cm。PLD成膜时问大约为120分钟，村底温度在500℃。 IO’、1．43×lO’、2．07×109、 在保持其它参数不变的情况下．改变激光功率密度．分别取O．8x 270×lO’、3．34×10’(w／cm2)，制备出变化光功率密度系列的薄膜。 兰竺堡型：[堕：i!塞 苎主堡全旦里竺蔓堕兰查丝 三．结果与讨论 我们用Rarnan光谱技术和扫描电镜研究了薄膜的结构和性质。 350cm。- 图·1为不同温度下生成的DLC膜的Raman光谱。DLC膜在拉曼光谱中表现为l 和i580cm4两条拉曼谱线．我们可以利用拉曼谱申盘刚石峰和非金刚石峰的积分强度比来 确定薄膜中金刚石成分的含量。为了进一步分折温度对DLC膜结构及其Raman光