电子束重复增量生成三维结构的研究.pdfVIP

第 27 卷 　第 7 期 半 　导 　体 　学 　报 Vol . 27 　No . 7 2006 年 7 月 C H IN ES E J O U RN AL O F S EM I CON D U C TO RS J uly ,2006 电子束重复增量扫描生成三维结构的研究 郝慧娟 　张玉林 　卢文娟 　魏 　强 ( 山东大学控制学院 电子束研究所 , 济南 　25006 1) 摘要 : 针对三维曝光图形的结构特点, 结合 自行设计的图形发生器 , 提出了电子束重复增量扫描方式及曝光剂量 与刻蚀深度关系和灵敏度的计算方法. 根据计算得到的剂量关系 ,按照重复增量扫描方式 , 在 SD S3 电子束曝光机 上进行了曝光实验 , 显影后得到了轮廓清晰的梯锥和圆锥的三维结构. 因此 ,重复增量扫描方式可以用于三维结构 的加工 , 并且关于曝光剂量与刻蚀深度关系和灵敏度的计算可以为其提供符合实际曝光的参数. 关键词 : D SP ; 图形发生器; 电子束光刻; 三维加工; 灵敏度 PACC : 4 180D ; 6 146 ; 6480 G 中图分类号 : TN 3057 　　　文献标识码 : A 　　　文章编号 : 02534 177 (2006) 于具有曲面结构的光学器件的光刻 , 需要分割图形 , 1 　引言 这就产生了大量的图形分割数据 , 增加了数据计算 时间. 即使这些图形数据通过上位机曝光前脱机处 微光刻技术的发展要求真正的三维结构和器件 理后 , 其传输也要花费很多的时间, 成为影响曝光速 ( ) 度和产量的重要因素. D O Es 图形多是旋转对称的 的制造与生产 , 像闪耀光栅 bl az e d gr at i n gs 、各类 ( ) ( ) 衍射光学元件 dif f r a ct ive op t ical ele m e nt s , D O Es 带状 图形 , 如 圆形 、圆环 菲涅尔波带等 . 鉴于 ( D O Es 的特殊结构 , 结合 自行设计的图形发生器的 和计算机全息图 c omp ut e r ge n e r at e d h ol ogr a ms , C G H) 、微阵列等 , 这些复杂元件要求加工不同的深 特点, 提出了重复增量扫描方式. 该扫描方式适用于 度和特定的曲面轮廓. 显影中, 不同曝光剂量的抗蚀 具有对称结构的图形. 对三维图形的加工 , 无需进行 [ 1 ] 复杂的图形分割 , 可根据器件的加工要求 , 产生简 剂溶解速率不同, 刻蚀深度也就不同 . 辐射剂量大 的区域 , 溶解速率快 , 刻蚀深度就深; 辐射剂量小的 单 、灵活的扫描数据; 该扫描方式也无需改变曝光剂 区域 , 溶解速率慢 , 刻蚀深度就浅. 传统的三维变剂 量 ,通过重复 、重叠的多次曝光 , 使光刻图形不同的 量加工方法就是利用了正性抗蚀剂的这个特性 , 不 地方得到不同的曝光总剂量. 增大重