辉光放电质谱应用及展望.pdfVIP

第28卷增2 冶金分析 V01．28，Suppl．2 2008年11月 MetallurgicalAnalysis November，2008 文章编号：10DO一7571(2008)增2～1164—18 辉光放电质谱的应用及展望 余兴’，李小佳，王海舟 (钢铁研究总院，北京100081) 摘 要：本文简单介绍了辉光放电质谱(GDMS)的基本原理。对辉光放电质谱在块状金属、半 导体、非导体、溶液、气体和深度分析方面的应用进行了综述。块状金属和半导体的痕量元素 分析是GDMS主要的应用，它们的研究报道众多，而对非导体材料的分析扩宽了GDMS的应 用范围，同时对溶液和气体样品进行分析是GDMS新的应用尝试。作为一种重要深度分析方 法，GDMS在深度分析方面的应用迅速增加。最后展望了辉光放电质谱的发展趋势。 关键词：辉光放电质谱；应用；展望 中图分类号：0657．63 文献标识码：A mass 辉光放电质谱(glowdischargespec— 剥离下来(阴极溅射)[19]，进入等到离子体，在等 离子体中与等离子体中的电子或亚稳态的Ar原 trometry，GDMS)作为目前对固体材料直接进行 痕量及超痕量元素分析的最有效的手段之 子碰撞(Penning)电离，变成正离子：M+e一一 M++2 一D-2]，近20多年来得到快速发展。GDMS不仅 具有优越的检测限和宽动态线性范围的优 实在GD源中Penning离子化是居于主导地位的 点[3-4]，而且样品制备简单、元素间灵敏度差异电离过程[201。 小、基体效应低[5]。自VGIsotopes公司(现名 cell SampleDischargeArgon Thermo Electron)在上世纪八十年代推出了其 VG 9000型辉光放电质谱分析仪以来[6】，大大促 进了该技术迅速发展，相关的报道倍增[7]。 GDMS以其优越的分析性能在电子学、化学、冶 ●●．_● ．盯净惜 金、地质以及材料科学等领域里得到广泛应用，在 高纯金属和半导体材料分析中已经显示出它的优 越性r8_18‘，对它在绝缘体、粉末、液体、有机物和 生物材料分析以及负离子测定中的应用也在积极 进行研究和完善，发展前景十分广阔。 1 基本原理 图1霹光放电质谮的基本原理 Basic ofthe Fig．1 principleglow 辉光放电(GD)属于低压下气体放电现象，历 ma皤spectrometry di虻har窖e 史上就作为一种有效的原子化和离子化源用于分 正离子通过离子源上的一个小出口进入离子 析。如图1所示，在辉光放电质谱的离子源中被 光学系统中进行聚焦，然后进入质量分析器按离 测样品作为辉光等离子体光源的阴极，在阴极与 子具有不同的质荷比进行分离，最后由离子检测 阳极之间充入惰性气体