吩噻嗪类染料在聚电解质与DNA层层组装膜上的负载%2f释放行为及电化学检测DNA损伤.pdfVIP

第‘}．届令图Ib分析化学会议论文集 电化学生物传感器与生物电化学分析 D7吩噻嗪类染料在聚电解质和DNA层层组装膜上的 放 行为及电化学检测DNA损伤 杜萌杨涛李卫娟焦奎+ (青岛科技大学化学与分子工程学院，青岛266042) 近年来层层组装作为一种简单常用的构建多层膜的技术引起了人们广泛的兴趣。 层层组装一个突出的优点就是多层膜上所负载的物质的量和种类都可以成倍地增加， 这将会极大地丰富膜的功能并最终实现功能的集成。现在层层组装已经应用于生物分 子膜的构建，各种各样的生物分子／聚电解质多层膜成功组装并研究。 本文运用层层组装技术，利用正电荷性的聚赖氨酸(pLys)和负电荷性的DNA 之间的静电吸附作用，把它们交替组装到羧基化的碳纳米管修饰的碳糊电极表面，形 成稳定有序的多层膜，然后运用循环伏安和交流阻抗等电化学方法对多层膜的组装进 行了研究。亚甲紫(MV)作为电活性探针，通过负载在多层膜上的MV的微分脉冲 研究(过程示意如图1)。 后，Cd(II)对部分DNA造成了氧化性的损伤，使部分DNA失去与MV结合的能力， h后，吸附MV的量较 所以CPE／CNT／(pLys／dsDNA)3在浸入MV的B．R缓冲溶液2 未被损伤之前有所减少，还原峰电流降低。在CdCl2溶液中浸泡时间逐渐增加，电极 上的DNA受到损伤程度随之加深，导致还原峰电流依次下降(b～f)。实验结果预 示了这种电化学检测致癌物质对DNA的损伤的方法有广阔的应用前景。 目前对于镉致DNA毒性作用机制不甚清楚，有人认为，镉诱发的DNA损伤与 镉引起的氧化应激反应有关，活性氧族(RoS)在镉致DNA单链断裂中发挥了重要 作用。镉可引起DNA单链断裂，形成DNA碱基修饰产物8．羟基脱氧鸟苷，并损害 DNA修复系统。高浓度的镉对DNA具有损伤作用，而在较低浓度下，镉干扰DNA 修复过程的作用较明显。上述直接和间接的遗传毒作用可能是镉致癌的机制之一。锌 是超氧化物歧化酶的重要成分之一，可控制过氧化作用。结合文献与本实验工作可见， 锌对镉中毒表现出良好的保护效应。用锌和镉同时处理DNA，能显著降低镉对DNA 损伤的程度。 28l 第十届伞国电分析化学会议论文集 电化学生物传感器与生物电化学分析 ht●l‘ar^Ⅳ r．k|I●at^I’ ‘INT，f出” h 一四一}曼j M、’ burlre’- b c 《霸 d control 20肿}—_4囊一 ’幽’ ．臂翮一cda矗。。雄。 ”四一， p‘。‘。‘u。” 气≤；i=：：i；7}“n。J 图2 105mol／L 图l CPE／CNT／(pLys／dsDNA)3与4．0x MV=f!fCNT／(pLys／dsDNA)3多层膜．I：的负载，释放，重 min；(b)10min；(c)20 新负载的过程示意图：(a)CNT／(pLy“dsDNA)3多层膜的CdCl2溶液作用_i同时间(a)0 min后得到的 rain；(f)50 min；(d)30min；(e)40 纽装；(b)MV的