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微镜片制作技术特集 光盘读写用微镜片对光驱而言，是不可或缺的关键性组件之一，为实现高速数据转送率同时提高镜片的耐冲击性，光盘读写用微镜片模块小型化乃是最有效的手段。此外基于量产性的考量，大多数的光盘读写用微镜片都是采用晶圆制程制作，具体而言它是利用电浆蚀刻技术(plasma etching)将光阻剂图案(photo resist pattern)转写，形成高NA值(Numerical Aperture)之微镜片：微镜片转写成形通常是使用低压、高速、高安全性之NLD蚀刻机(Magnetic Neutral Loop Discharge)。 ? ? 4.1电浆蚀刻式微镜片 微镜片制程如图23所示，首先在溶融状石英基板上涂布低玻璃转移温度之光阻剂，接着曝光、显影形成圆筒状光阻剂图案，之后进行??????，30分钟的烘烤，使光阻剂的形状变成半球状，此时调整烘烤温度与时间就可获得真球度极佳的光阻剂形状。如上所述??????蚀刻技术使用NLD蚀刻设备，它的主要动作原理是将RF电流输入在真空环境中形成的环状零磁束密度磁气中性线内(NL:Neutral Loop)，产生高效率放电与高密度电浆，因此NLD蚀刻设备可作高速蚀刻加工。此外由于NLD具备低磁场强度之charge up free process特性，所以安全性非常优秀。蚀刻蚀刻时必需将He气体流至溶融状石英基板背面，利用热交换机冷却基板使基板电极温度保持在??????范围内。 光阻劑 ? ? 曝光、顯影 150度C熱處理 NLD電漿蝕刻 圖23電漿蝕刻微鏡片的製作流程 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 图24是??????、??????、??????三种蚀刻气体在蚀刻炉内，0.27Pa压力环境中进行NLD电浆蚀刻后所获得的??????微镜片SEM外观，由图可确认利用电浆蚀刻加工法的微镜片表面无任何粗糙面，或是反应物的附着与堆积，而且镜片表面的曲线非常圆润(smooth)。 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 圖24電漿蝕刻微鏡片的SEM外觀 ? ? 图25是利用Fizeau式光学干涉仪观察??????微镜片干涉缟的结果。??????微镜片的曲面精度为0.018λ(rms)，该干涉缟是由NA＝0.6理想波面朝??????微镜片中心集光，并藉由R面反射光与参考光的干涉而获得，实际上读写时(pick up)会受到穿透波面的影响，所以该值会降低一半左右。 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 圖25電漿蝕刻微鏡片的波面 ? ? ? ? ? ? 图26是光盘片读写测试仪的结构图；图27是两群镜片的结构图。测试读写再生时使用上述制程制作的微镜片作为第一群镜片，镜片曲率半径为0.15mm折射率为1.46；第二群镜片的NA值为0.54，第一群与第二群镜片组合后的实效NA值为0.85，照射光源使用日亚化学的蓝紫色雷射，波长为407nm。测试时并使用的相变化可擦写型光盘片，它的膜层结构与T.Narahara的DVR完全相同，该DVR(Digital Video Recording)的保护层厚度为0.1mm，为加严进行验证所以测试时DVR保护层厚度为0.05mm，WD(Working Distance)也是0.05mm。 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 圖26光碟片記錄再生測試儀結構 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 圖27兩群鏡片的結構 ? ? ? ? 图28是1-7变频时的eye pattern，该eye pattern的bit长度为130nm，轨道间距(track pitch)为300nm，光盘片直径为ψ120mm，单面容量22.5Gbyte。根据测试结果证实资料转送率为35Mbit/s，线速度为5.72m/s，记录与再生power等特性与DVR完全相同。 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 圖28使用電漿蝕刻鏡片作再生讀寫測試時的eyepattern ? ? ? ? 4.2 DVR-Blue用电浆蚀刻式微镜片 上述??????微镜片有曲率半径的限制，无法适用于DVR与WD等厚度较大的保护层，所以必需另外开发高NA值的微镜片。上述??????微镜片是利用光阻剂溶融状态时的表面张力，形成一定半径的半球形微镜片，当微