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- 2017-08-09 发布于浙江
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Qd-6气动泵
和北京中科信公司承担的国家 “十五”863计划集成电路制造装备重大专项 “100纳米离子刻蚀机”和 “100纳米离子
注入机”项目顺利通过科技部组织的验收,这标志着中国集成电路制造核心装备由此取得历史性突破。
3年跨越5个技术代
没有先进的集成电路制造设备,就不可能有自主先进的集成电路芯片产品。“九五”末期,我国集成电路装备的水平为6
英寸500纳米,与当时国外领先的8英寸100纳米相差5个技术代,国内所有8英寸以上生产线没有一台国产设备。同时,
集成电路制造装备企业为长久占领市场,对中国实行技术封锁和禁运遏制战略,并用高价控制中国市场。要摆脱落后挨打的
困境,只有自强。为此,北京市在科技部的支持下,大力发展集成电路装备产业。2002年 11月,北京市政府启动 “100纳米
高密度等离子刻蚀机与大角度离子注入机”项目。
“离子刻蚀机和离子注入机是芯片生产线上的关键设备。所谓100纳米,指的是硅材上刻的小槽宽度,这个数值越小,
意味着芯片的精确度和集成度越高。8英寸指硅片的大小,硅片越大,效率越高,但对技术要求也越高。相对于 ‘九五’末
期的6英寸500纳米跨越了5个技术代。”北方微电子公司相关负责人告诉记者。国外技术从500纳米发展到 100纳米大角度
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