钛锆铪氧化物镀膜材料及其薄膜应用.pdfVIP

第五届全国稀有金属学术交流会 湖南·长沙 2006年11月865 钛锆铪氧化物镀膜材料及其薄膜应用 王星明段华英孙静张明贤储茂友张碧田 (北京有色金属研究总院，北京，100088) 摘要：分别介绍了钛锆铪氧化物镀膜材料性能及在光学和其它领域的薄膜应用，并对市场状 况进行了评估。 钛锆铪的氧化物都具有高折射率、低的光吸收及良好的透过性能，因此在光学、光电学 方面钛锆铪的氧化物应用广泛。此外，由于它们还具有其它一些独特的物理化学性能，使得 钛锆铪氧化物薄膜在微电子学、磁学、量子工程、表面工程等方面得到广泛应用。 一钛锆铪氧化物镀膜材料基本性能 1)光学性能 表一是氧化钛、氧化锆、氧化铪的光学性能，可见这三种薄膜都是在可见光波段有着 高透过率、高折射率，氧化钛、氧化锆在紫外区有着强烈吸收，氧化铪在200nm以上波段都 表现出良好的透过性能。 表l 是氧化钛、氧化锆、氧化铪的一些典型光学性能 2)纯度 表二是氧化钛、氧化锆、氧化铪材料典型纯度及杂质含量分析，表三是各种杂质氧化物 在可见波段的光学性能。， 表2氧化钛镀膜材料的典型杂质含量，单位：ppm(max) 由表2、表3可以看出，所列出的杂质元素在可见波段的折射率及透射波段与钛锆铪的 氧化物性能差别较大，杂质的存在一方面会导致薄膜对光的强烈吸收；另一方面对薄膜的折 第五届全国稀有金属学术交流会 湖南·长沙 2006年11月 射率造成很大的影响，从而改变了整个膜系的光学性能。因此，在镀膜材料中，应避免上述 杂质特别是对光有强烈吸收的杂质的污染。 3)高密度、镀膜过程无喷溅 镀膜时，先要对材料进行预熔，如果镀膜材料致密度低，材料中包含许多气孔，则在 预熔时发生激烈的喷溅，镀膜时放气量丈，导致真空室的污染和材料利用率降低，另外也增 加了在镀膜工艺的不稳定和镀膜过程中基片上产生溅点的可能，导致薄摸失效。因此氧化物 镀膜材料应尽可能高致密化，并彻底排除材料内包容的气体。 4)化学组成 由于镀膜是在接近或超过氧化物的熔点温度下进行的，这三种氧化物高折射率材料都 会在镀膜过程中失去氧，这增加了镀膜工艺的不稳定性，因此有时需要对镀膜材料进行失氧 处理。 根据不同镀膜工艺需要，需要进行不同程度的失氧处理。氧化钛蒸发材料包括多种不同 z03、Ti。0s、Tioz、Tit0，、Ti Ti、0比的化合物，如Ti0、Ti s0。等等。所有这些化合物都是在充 氧状态下蒸发沉积薄膜的，最终的薄膜成分都是Tioz，但得到的薄膜结构与性能略有不同。 与氧化钛类似，氧化锆镀膜材料有Zr0、Zr02。而氧化铪镀膜材料有Hf0。。等。， 为了提高镀膜工艺稳定性、改善薄膜性能或得到新的薄膜，需要添加其它氧化物构成新 Ti02-xPr60ll、Zr02·Y203、Zr02-xLa203、HID2一Y203等等。 二钛锆铪氧化物在薄膜中的应用 1)氧化钛镀膜材料及应用 氧化钛薄膜在可见区域的折射率是所有氧化物薄膜中最高的，见图一，折射率能达到 2．5上。图二是Ti02薄膜的紫外～可见光透射光谱，图三是锗基底上Ti0：薄膜的红外光谱曲 线。由图可见，在可见及红外的特定波段，Tioz薄膜都具有良好的透过性能。膜层致密稳定， 它与Si0。膜层的结合可以制备出寿命长、薄膜内应力小的膜系。相比其它高折射率材料， 氧化钛薄膜在可见光的应用得到最早商业化，现在也发展得最成熟。 沉积遮宰(m／s) 图1Tiot薄膜折射率与沉积速率的关系“ 第五届全国稀有金属学术交流会 湖南·长沙 2006年11爿867 图2 600～800℃热处理的Ti02薄膜的紫外．可见光透射光谱∞ m ∞ Ⅷ 姗1mO朋 髓f 图3锗基底上TiOz薄膜的红外光谱… TiO。薄膜