应用ICP-MS技术测定高纯铕中的超痕量稀土杂质.pdfVIP

第十屠全罾稀士元素分析佬学学术报告会论文 B．14 应用ICP．MS技术测定高纯铕中的超痕量稀土杂质 陈登云裴立文 (安捷伦科技有限公司(中国)，北京，100022) 关键词：稀土，lCp．Ms，Eu，干扰 前言 高纯稀土(REE)已被广泛应用于高新科技的各个生产领域．例如显示器、电子元件、光电子器件、 超导体、超磁体、陶瓷等。在稀土材料的生产和应用过程中，稀土材料的纯度对价格以及产品的性能有 决定性的作用。在稀土材料的提炼的每～个步骤中都需要对材料的纯度进行测定。虽然传统分析方法如 中子活化分析、x一射线荧光分析、IcP发射光谱分析等方法已被大量应用、僵这些方法都有较大的局限 牲掘分析周期长绒检测限差等．1cP捌s技术由于其极低的检测限、干扰小、同时多元素快速分析能力、 8—9个数量级的线性动态范围等特性成为目前稀土纯度分析中最具有魅力的技术。 技术也有其本身的弱点，即分子离子重叠干扰问题，例如‰阳+，39Ar矿，”Arc‘，“Cc+等分子离子对 56Fe+，”K十，”cr十，”Mg+等元素的重叠干扰。对于这一类分子离子干扰，许多消除干扰的技术已被开发 出来，最成功的技术包括ShieIdTorch玲等离子体技术、碰撞／反应