美国南伊利诺斯大学葛庆峰教授到中科院兰化所进行学术交流.pdfVIP

我 国学者参加第三十八届冶金 涂层与薄膜 国际会议 第三十八届冶金涂层与薄膜国际会议于2011年5月2日至5月6日在美国圣地亚哥举行。参： 700人左右．主要来 自美国、德国、法国、日本、中国等30多个国家和地区。清华大学、武汉： 位的学者和研究生代表参加了会议。清华大学博士生魏松波获得了由AVS先进表面工程分支机； 奖 fGraduateStudentAwards)o 冶金涂层与薄膜国际会议 lICMCTF)是融合了薄膜沉积、表征和表面改性等领域的基础j 级国际会议之一。也是促进这个领域专家、学者和制造商学术交流的重要平台。此次第三十八 席是英国纽卡斯尔大学的S．J．Bull教授。会议共分为高温涂层、硬质涂层及沉积技术、涂层和j 力学行为等7个分会场．包括460多个口头报告和150多个张贴报告。针对 目前薄膜和涂层的研： 自全世界的专家们进行了深入的探讨。交流了各自的研究进展、科研体会。以及对未来的研究： 2 —■—一 国 际 交 美 国南伊利诺斯大学葛庆峰教授 流 到 中科 院兰化所 进行学术交流 2011年 5