Ti—Si—N复合膜的微结构及性能研究.pdfVIP

维普资讯 第37卷 第2期 2008年4月 表表面囱投技木术 Vo1．37 No．2 ADr．2008 SURFACE TECHNOLOGY Ti—Si—N复合膜的微结构及性能研究 农尚斌 ，喻利花，许俊华 (江苏科技大学材料科学与工程学院先进焊接技术重点实验室，江苏 镇江 212003) [摘 要] 为研究si的加入及含量对薄膜结构和性能的影响，采用磁控反应溅射法制备了一系列不同si含量的n—si—N复合 膜，采用XRD、微力学探针和SEM研究了薄膜的微结构、力学性能和抗氧化性。结果表明：随着 si含量的增加 ，薄膜晶粒尺寸减小， 硬度升高，抗氧化性能提高。si含量为4％一12％(原子数分数)时，晶粒尺寸随含量增加而急剧下降；3-Si含量超过9％时，薄膜硬 度处于峰值区；Si含量在7％以上时，薄