磁控溅射制备AlN薄膜的蒙特卡罗模拟.pdfVIP

磁控溅射制备AlN薄膜的蒙特卡罗模拟 佟洪波 。柳青 (辽宁石油化工大学机械工程学院，辽宁 抚顺 l13oo1) [摘 要] 应用蒙特卡罗程序TRIM对Ar轰击AlN的微观过程进行了拱拟。对不同能量以及不同角度下Ar轰击AlN引起 的溅射产额进行了系统的研究。随着入射离子能量的逐渐增加，AlN的溅射产额呈上升趋势。AlN的溅射产额随入射角增加而逐 渐升高，在75。左右达到峰值，超过75。后，溅射产额急剧下降。实验发现垂直入射时和斜入射时，Al和N两元素的分溅射产额的比 值变化规律有着明显的不同。 [关键词】 AlN薄膜；溅射产额；蒙特卡罗模拟 【中图分类号]TGl74．444；TB43 【文献标识码]A 【文章编号】10ol一366o(2Oo9)O3—0098一o3 MOnte-carl0Simlllati0n0fMagnetrOnSputtering0fAlN ThinTilms ToNGHong-bo．LlUQing ， (Sch0ol0fMechd．nicalEng