离子注入陶瓷化学镀Cu工艺的优化.pdfVIP

维普资讯 维普资讯 第35卷 第2期 表 面 技 术 Vo1．35 NO．2 2006年4月 SURFACETECHNoL0GY Apr．2006 衰1 化学镀铜因素位级衰 度对镀速有显著影响，最优工艺方案为A3 C：。3种因素对表 面粗糙度的影响主次顺序为ABC，即铜盐浓度对镀层表面 粗糙度有显著影响，最优工艺方案为A：B：c：。综合两因素，以 镀速为主，得出最优工艺为 B，c2，即硫酸铜0．12mol／L，甲醛 0．48mol／L，酒石酸钾钠0．36mol／L，pH值为 12．5一l3。