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退火温度对 TiO2薄膜结构和光学性能的影响 刘佳，朱昌 (西安工业大学光电工程学院，陕西 西安 710032) [摘 要] 为制备光学性能良好的TiO 薄膜。采用离子束溅射(IBS)的方法，改变退火温度，在si基底上制备氧化钛 (TiO) 薄膜。利用XRD、XPS、SEM测试薄膜的成分、结晶形式和表面形貌，椭圆偏振光谱仪分析薄膜折射率和消光系数。试验结果发现： 随退火温度的增加，薄膜由锐钛矿相变为金红石相，400oC薄膜结晶为锐钛矿相TiP，，1100qc退火后，薄膜结晶为金红石相TiP，；退 火温度升高使薄膜折射率和消光系数随之升高。由此可得，800℃退火时，TiP，薄膜具有最佳光学性能。 [关键词] TiP，；退火温度；结晶；光学性能；薄膜；离子束溅射 [中图分类号】TG174．444；0484．4 [文献标识码]A [文章编号】1001—3660(2009)01—0040—03 EffectofAnnealingTemperature ontheStruc