快速热氧化制备二氧化硅薄膜的红外研究.pdfVIP

维普资讯 第28卷 第 1期 材 料 热 处 理 学 报 Vo1．28 No ．I TRANSACTIONSOFMATERIALSAND HEATTREATMENT February 2007 2007年 2月 快速热氧化制备二氧化硅薄膜的红外研究 陈 涛， 席珍强， 杨德仁， 阙端麟 (浙江大学硅材料 国家重点实验室 ，浙江 杭州 310027) 摘 要 ：通过傅立叶红外吸收光谱分析 了不 同温度和时间下在硅衬底上快速热氧化(RT0)处理后 的样 品。结果表 明，在处理相 同的时间下，随着热处理温度的升高，二氧化硅薄膜的非对称伸展振动模式峰强度增强，其峰位发生了偏移。在 800％下制备二 氧化硅薄膜的热氧化动力学规律不同于 1200％下的情况。在 800℃下，