铝基板上沉积氮化铝薄膜的制备及特性分析.pdfVIP

维普资讯 第29卷 第4期 材 料 热 处 理 学 报 VO1．29 No．4 2008年 8月 FRANSACTIONS 0}’MAI’ERIALS AND ttEA_rIREAFMEN1。。’ August 2008 铝基板上沉积氮化铝薄膜的制备及特性分析 刘 文， 杨清斗， 李华平 ， 王质武 (深圳大学光电子学研究所；广东省光电子器件与系统重点实验室 ； 光电子器件与系统教育部重点实验室，广东 深圳 518060) 摘 要 ：采用直流反应磁控溅射方法 ，在铝基板 七制备了AIN薄膜 。利用 x射线衍射仪 、带能 色散谱仪的扫描 电子显做镜 、阻 抗特性测试仪 、椭嘲偏振光谱仪 大荷载划痕仪等对薄膜特性进行测试，分析 了不同溅射 l艺条件对生长薄膜的影 响。结果表 明，获得 ，『化学计量 比