铜表面气体渗硅涂层的抗氧化性能研究.pdfVIP

维普资讯 第9卷第3期 腐蚀科学与防护技术 v。1．9N。．3 1997年 7月 CORROSION SCIENCE AND PROIECTION IECHNOLOGY July1997 铜 的 抗氧化性能研究 沈复初 毛志远 吼／盘4叶必光 甘正浩 晋圣发 一 ————i 州l31。∞7) 关键主词讨气体…渗硅塑，．抗氧化性，xPs滴l烈 龛、磋 l一 学科分 事— 74．445 —— ＼ 纯铜因其 良好的导 电导热性能 ，是工程上一种广泛应用的材料．为 了改善其表面性能 ．可 以进行表面镀覆 (电镀或化学镀)，获得合适的抗腐蚀性和抗氧化性．文献 。报道了用固体法 进行表面渗硅 ，在铜的表层生成铜硅固溶体或铜硅化合物层 ，但工艺复杂 ，此法未见推广 ，所得 改性表层的性能研究也未见报道．Sanjurjo等人口 报道 了利用流态床在铜表面化学气相沉积 硅 ，以获得改性硅椽层的研究．但 由于气相是 Si—H—cl体系．严重腐蚀实验设备，应用上也有其 局限性．Cabrera等人 ¨ 报道了利用 Sill ／H 混合气体在铜表面沉积硅 ．并继而使硅 向基体 扩散从而获得 CuSi金属间化合物椽层的研究 ，对该涂层的氧化行为进行 了研究 ，但是并未对 在不同温度下铜渗硅层表现出来的与铜不 同的氧化特性进行机理分析． 本文 旨从氧化热力学和动力学的角度出发 ，利用 x射线光电子能谱 (XPS)的方法对含硅 铜涂层 的氧化机理进行探讨． 1实验方法 l_l样品制备方法 文献 ’报道 了样品制备的设备与工艺过程．样品制 备过程简述如下 ：(1)在充满 流动的 Sill ／H 混合气体的石英管容器中．将平板状工业纯铜 (20mm ×20mm×3mm)置于平板状 的石墨基座上；(2)利用高频感应加热设备对石墨基座加热 ．通过热传导和热辐射将热量传递 到置于石墨基座上的铜试样 ：(3)选择合适的加热温度 ，使硅烷在石英管中与加热的石墨基座 及铜试样接触进行热分解 ，并在铜表面沉积硅 ；(4)在沉积硅原子的同时，活性硅原子 由铜表面 向基体扩散．开始在表面形成铜硅固溶体，随着硅原子 的进一步沉积和扩散 ，在表面将形成铜 国家 自妻!{科学基金资助项 目 收蓟 初稿 1996—07—10，收到修 改稿 ：1996—11一O 维普资讯 腐蚀科 学与防护技术 9卷 硅金属问化合物． 渗硅后的样品进行 了金相 检验与 X射线相分析．经 X射线衍 射谱，分析含硅涂层含有 CusSi与 Cu-；Si两种铜硅化合物和铜硅固溶体．含硅涂层的电子探针分析 (图 1)则显示了 自 铜基体到表面的硅含量分布 ：硅含量 自铜基体 (a)到表面逐渐升高 ，白亮层 (c)，即表面铜硅化 合物层)与基体之间有一固溶体过渡层 (b)，其厚度 只有几个微米，其中硅含量梯度较大．图2 是渗硅层的截面金相抛光照片，照片中中间长条 为渗硅层，下部为基体铜 ，上部为夹具 (照片上 看不出白亮层与基体之 间的过渡层)．从照片 中可以看出，涂层厚度均匀 ，达 10u,m左右．与铜 基体相 比．硬度高 ；压痕完整．表明涂层本身脆性低． Fig．1ResultofEPMA anatysisofthe siticonized Fig．2Mierostructureofdiffusion [ayer(withinden— a【yers tation．×500) 1|2实验方法 本研究采用电阻炉方式加热，氧化实验在空气 中进行．放置样品的恒温区温度波动不超过 土5℃ 采用增重法测量试样 的氧化动力学 ，采用岛津 SLM200分析天平 ，感量 为十万分之一． 实验中分别采用纯铜样品和纯铜渗