磁控溅射制备Ru-B薄膜的研究.pdfVIP

2013年 5月 贵 金 属 Mav2013 第 34卷第 2期 PreciousMetals V_oI．34．No．2 磁控溅射制备Ru．B薄膜的研究 殷聪朋，管伟明，张俊敏，刘洪江，陈 勇，张昆华 (昆明贵金属研究所 稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室，昆明 650106) 摘 要：采用射频磁控溅射技术制备了Ru—B薄膜，利用掠入射 x射线衍射(GIXRD)、高分辨透射 电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)等分析技术对薄膜的相结构、沉积速率以及表面形貌进 行了研究分析 结果表明：在室温下制备的Ru—B薄膜均为非晶态。薄膜的沉积速率不随溅射时间 变化，但随溅射功率的增加而增大。薄膜表面光滑致密质量 良好，随着溅射时间的延长，薄膜表面 晶粒大小和粗糙度增大。溅射功率影响着基片表面粒子的形核长大和迁移扩散速率，进而影响薄膜 的表面形貌。 关键词：金属材料；超硬薄膜；磁控溅射；Ru—B薄膜；表面形貌 中图分类号：TB34 文献标识码：A 文章编号：1004—0676(2013)02．0005—05 StudyofRu—BFilmsPreparedbyMagnetronSputtering YINCongpeng，GUANWeiming，ZHANGJunmin，LIUHongjiang，CHENYong，ZHANGKunhua (StateKeyLaboratoryofAdvancedTechnologiesforComprehensiveUtilizationofPlatinumMetals， KunmingInstituteofPreciousMetals，Kunming650106，China) Abstract：Ru—B filmswere preparedby RF magnetron sputtering technique．The phase structure， deposition rate and surface morphology ofRu-B filmswereresearched and analyzed by glancing incidenceX—raydiffraction(GIXRD)，highresolutiontransmissionelectronmicroscopy(HRTEM)and atomicforcemicroscope(AFM)．TheresultsindicatedthattheRu-Bfilmsdepositedatroomtemperature wereallamoprhous．Thedepositionratewasnotchangedwiththe~putteringtime，butincreasedlinearly withthesputteringpower．Thesurfaceoffilmswassmooth，denseandfine，andthegrainsizeandsurface roughnesswereincreasedwiththesputteringtime．Thesputteringpoweraffectsthenucleationgrowthand themigrationdiffusionrateofsubstratesurfaceparticles，andthenaffectsthesurfacemoprhology． Keywords：metalmaterials；superhardfilm；magnetronsputtering；Ru-B film；surfacemoprhology 硬质和超硬涂层材料[11被广泛地应用在刀具、 其在最为常用的钢铁材料加工中的应用。立方氮化 模具等表面防护领域，在不改变材料整体性能的前 硼[3]是人工合成的超硬材料，具有优异的力学、光 提下，以其优异的耐磨抗蚀等性能提高材料的使用