SiC衬底金刚石薄膜的制备与性能表征.pdfVIP

维普资讯 2007年 8月 金刚石与磨料磨具工程 Aug．2007 总第 160期 第4期 Diamond AbrasivesEngineering Seria1．16o No．4 文章编号：1006—852X(2007)04—0004—40 SiC衬底金刚石薄膜的制备与性能表征 胡如夫 孙方宏 (1．宁波工程学院交通学院，宁波 315016) (2．上海交通大学机械与动力工程学院，上海 200030) 摘 要 用热丝 CVD法，以丙酮和氢气为碳源，在 SiC衬底上沉积金刚石薄膜，提出了分步变参数沉积法制备超细晶粒 金刚石复合薄膜的新工艺。结果表明，合理控制工艺条件的新工艺，对金刚石薄膜质量、形貌和粗糙度、薄膜与衬底间的 附着力以及薄膜的摩擦系数有显著影响，金刚石薄膜的平均晶粒尺寸从3 m减小到0．3Ixm，拉曼特征峰显示超细晶粒 金刚石薄膜特征，涂层附着力好 ，超细晶粒金刚石薄膜的表面粗糙度和摩擦系数值显著下降，对获取实用化的SiC在基 体上沉积高附着强度、低粗糙度金刚石薄膜的新技术具有重要的意义。 关键词 金刚石薄膜；SiC材料；附着力；表面粗糙度 中图分类号 TQ164 文献标识码 A Fabricationandcharacterization ofdiamondfilmsonSiC substrate HuRufu SunFanghong (1．SchoolofTrafficandTransportation，NingboUniversityofTechnology，Ningbo315016，China) (2．SchoolofMechanicalEngineenng，ShanghaiJiaoTongUnivemity，Shanghai200030，China) Abstract ThediamondthinfilmsaredepositedonSiCsubstratesusingacetoneandhydrogenas thegassourcebyhotfilament chemicalvapordeposition(HFCVD)．Anewtechnicalmethodisproposedtodepositfine-graineddiamondthinfilmsbythe intermittentdepo sitionwithalternativedepo sitionparma eters．Th eresultsshow thatthenew processforappropriatelycontrolling depositionconditionsaffectsrgeatlythesurfaceroughness，morphology，chemical quality，adhesionstrengthandfrictioneoefiqeient ofthediamondfilm．Theaveragergainsizeofthediamondfilmsdecreasesfrom 3to0．3Ixm．TheRamanstructureexhibitshte fanlreoffine-rgaineddiamondfilms．Thesmoothfine-rgaineddiamondcoatingsdisplaygoodadhesionandthesurfacerouhgness andfrictioneoefiqeientwerereduced obviously．Itisofrgeatsignificnaceofrpractical application ofthenew technologyof depositin