磁性电子元器件精加工用抛光剂性能研究.pdfVIP

维普资讯 2006年4月 金刚石与磨料磨是工程 April．2006 总第 152期 第2期 Diamond＆ AbrasivesEngineering Seria1．】52 No．2 文章编号：1006—852X(2006)O2—0058—03 磁性电子元器件精加工用抛光剂性能研究 方向前 (中原工学院 电子信息学院，河南 郑州450007) 摘 要 研制出了适合于磁性电子元器件表面平坦化加工用的抛光剂，该抛光剂磨料选用超细 —A1。0，微粉。通过对 磨料化学纯度的处理、表面包裹处理、抗静电处理、分散剂等方面研究试验，对抛光剂悬浮性、酸碱性、润滑性、可擦性等 方面进行检测，结果表明：该抛光剂具有高浓度、低粘度和高分散稳定性，抛光效率高，具有 良好的抗静电性和可擦性。 抛光荆pH=6—8。抛光效率≥1．21~m／s，工件表面粗糙度 Ra~0．041xm。 关键词 磁性电子元器件 ；超细 —A1：03微粉；抛光剂；精加工 中图分类号 TG74 TG580．68 文献标识码 A Investigationofcharacteristicsofpolishingsolutionusedforfinish M achiningofMagneticElectronParts FangXiangqian (Collegeofelectronicsandinformation，ZhongyuanInstituteofTechnology，Zhengzhou450007，China) Abstract Inthispaper，theexperimentalresultsofpolishingsolutionusedforfinishmachiningofmagneticelectronpartsof印- paratuswagreported．Thepolishingsolutioncontainssuper-thin -A12O3powder．Byinvestigatinghtetreatingofchemistrypurity andsurfacewrapofthepower，electrostaticant!statictreatinganddispersantaswellasthemeasureofthecharacteraboutsuspen— sion，aciditynadalkalescence，lubricativeactionandwiping。itwasfoundthatthispolishingsolutionhashighconcentration，low adherence，highseparatingstability，highpo lishingefficiency。anditsantielectrostaticchraacterandwipingcharacterwerevery good．Th epHvalueofhtispolishingsolutionwas6—8，polishingefficiencywasgreaterthna 1．2 m／s。andtheroughhessofthe po lishedworkpieceWas lessthna 0，04,／rm． ● Keywordsmagneticelectronparts；super-thin -A1203powder~polishingsolution；finishnmchining 作为CMP技术用