TiN／Si3N4纳米复相陶瓷电加工表面质量的正交试验研究.pdfVIP

维普资讯 模具工业 2O08年第34卷第4期 TtN／Si3N4纳米复相陶瓷电,~rlT． 表面质量的正交试验研究 张成茂 ，张 明 ，靳喜海 2高 濂 (1．青岛科技大学 机电工程学院，山东 青岛 266061： 2．中国科学院上海硅酸盐所 高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室，上海 21)0050) 摘要：通过对TIN／Si，N纳米复相陶瓷电火花线切割加工电参数的优化试验，找 出了影响表面粗糙度值 的主要因素和较优组合，为进一步开发T~N／Si，N纳米复相陶瓷材料的应用提供 了依据。 关键词：电火花线切割；TaN／Si~4纳米复相陶瓷；表面粗糙度值；正交试验 中图分类号：113-661 文献标识码：A 文章编号：1001—2168(2008)04—0072—04 Orthogon