硅酸钠浓度对铝合金微弧氧化起弧过程能量消耗的影响.pdfVIP

第 23卷第4期 中国有色金属学报 20l3年 4月 Vb1．23No．4 TheChineseJournalofNoRferrousM etals ADL2013 文章编号：1004-0609(2013)04．0950—07 硅酸钠浓度对铝合金微弧氧化起弧过程能量消耗的影响 葛廷峰，蒋百灵，时惠英 f西安理工大学 材料科学与工程学院，西安 710048) 摘 要：利用脉冲微弧氧化 电源研究 1015铝合金于不同浓度硅酸钠水溶液中的起弧过程 ，借助扫描 电子显微镜 和电化学测试方法分析硅酸钠浓度对起弧瞬间膜层微观结构和表面阻值的影响，并根据电压变化曲线计算起弧过 程的能量消耗。结果表明：当溶液中硅酸钠浓度为0时，即使极间电压升至 l500V，铝合金表面仍无微弧放电 现象出现，并发生电解腐蚀；随着硅酸钠浓度由0．25g／L增加至 10g／L时，铝合金表面发生微弧放电现象所需的 电压由1217v降低至351V，通电至起弧的等待时间由270s缩短至40s，起弧瞬间膜层表面放电微孔数量增多； 铝合金表面形成阻值达 10数量级的高阻抗膜是发生微弧放电现象的前提，硅酸钠浓度的增大有利于形成高阻抗 膜；铝合金微弧氧化起弧过程的能量消耗随着电解液中硅酸钠浓度的增大 1『]『减小，并在硅酸钠浓度为 10g／L时达 到最小值，仅为 16kJ／drn2。 关键词：铝合金；微弧氧化；硅酸钠；起弧过程；能量消耗 中图分类号：TG174．4；TG179 文献标志码：A EffectofNa2SiO3concentrationonenergyconsumptionduring arcingprocessofmicro-arcoxidationonaluminum alloys GEYah—feng，JIANGBai—ling，SHIHuiy·ing (SchoolofMaterialsScienceandEngineering，Xi’anUniversityofTechnology,Xi’an710048，China) Abstract：Thearcingprocessofmicro—arcoxidation(MAO)on1015alloysaluminum (A1)usingpulsepowersourcein aqueoussolutionswithdifferentNa2SiO3concentrationswasstudied．Themorphologiesandsurfaceresistanceofinitial filmsatarcingmomentwereanalyzedandobservedusingscanningelectronmicroscope(SEM)andelectrochemicaltest， respectively．TheeffectofNa2SiO3concenrtationonenergyconsumptionofarcingprocessduringMAOwascalculated basedonchangecurveofvoltage．TheresultsindicatethatthereisnoarcingphenomenonbutelectrolyticetchingonA1 sampleswhentheNa2SiO3concenrtationis0andvoltageisl500V W ithNa2SiO3solutionconcenrtationincreasing from 0．25g／Lto10g／L，racingvoltagedroppingrfom 1217Vto351V’arcingtimereducingfrom 270sto40s