可见与近红外增透膜的设计和制备.pdfVIP

第39卷 第5期 激 光 与 红 外 Vo1．39，No．5 2009年 5月 LASER ＆ INFRARED May，2009 文章编号：1001-5078(2009)05-0528433 ·光学材料器件与薄膜 · 可见与近红外增透膜的设计和制备 张家斌，付秀华，贺才美 (长春理工大学，吉林 长春 130022) 摘 要：为满足大气辐射系统中光学元件的使用要求，即可见与近红外波段高透过，根据双有 效界面法设计原理配合膜系软件设计膜系，采用离子辅助沉积，电子束真空镀膜的方法，通过 对工艺参数的调整和监控方法的改进，制备400～1200nm宽带增透膜。所镀膜层在垂直入射 时，400～1200nm波段平均反射率小于 1％。同时对膜层牢固性进行了测试，满足大气辐射系 统的使用要求。 关键词：光学薄膜；大气辐射系统；宽带增透膜；离子辅助 中图分类号：0484．1 文献标识码：A Designandfabrication ofvisibleandinfrared bandbroadbandAR coating ZHANGJia．bin，FUXiu．hua，HECai．mei (ChangchunUniversityofScienceandTechnology，Changchun130022，China) Abstract：Inordertomeettheopticalinstrumentsoperatingrequirementsofatmosphericradiationsystems，namely，it mustbehightransmittanceduringvisibleandnear—infraredband，weadoptelectronicbeamingvacuum depositing methodwiththeaidofionassistantdepositionsystems．ThestructureisdesignedbyTFCsoftwarewithdoubleefficien— cyinterfacetheory．Throughoptimizingtechnical parameters andimprovingthemonitormethod，wedepositthefilm on thesubstrate．Inconditionofvertical incidence．theaveragereflectivitybelow 1％ through400—1200nm wavelength． Inaddition，thecoatinghavesuccessfullypassedenvironmentaltests，itcancompletelymeetthedemandsofatmos— phericradiationsystems． Keywords：opticalthinfilm；atmosphericradiationsystems；broadbandARcoating；ionassistantdeposition(IAD) 1 引 言 求，选取 TiO ，SiO2，A1O ，MgF：四种镀膜材料，通 增透膜，也称减反射膜，用于减少光学元件表面 过改进工艺参数，优化监控方法，制备了400～1200 的反射，增加工作波段内光线的透过率。日常生活 nm宽带增透膜，最后给出了实测光谱曲线和牢固度 中的一些光学元件都通过镀增透膜来提高光能量， 测试结果。 增加光线透过率，如照相机、摄像机、显