Fex（In2O3）1—x磁性颗粒膜的结构及光学性质.pdfVIP

维普资讯 第7卷第 6期 中 国 粉 体 技 术 vd．7№6 2001年 12月 DecmabeTa001 作者介绍：王军单(1968一)，男。1990年阜业于山东丈学轴理系，理学学士。在雄坊学院工作，实验师。现在山东丈学攻 读硕士学位 。主要从事凝泉态物理方面的矸宄。 ． 一 丸 王军华 (潍坊学院物理系．山东 潍坊 261043) 摘 要：用射频溅射法制备 了金属 ／g-旱体 FeA q)卜颗 粒薄膜，本文仅就该颗粒膜的结构和光学特性进行讨 粒膜。实验结果表明；纳米足度的Fe颗粒比较均匀地分布在 论。 非晶志母体 l啦q 中：退戈可使 I啦q 晶化。该样品在室温 下表现出超顺磁驰豫，符合l棚静 n方程。光学测量表明：嵌 1 实验方法 Fe的磁性颗粒膜．其电子的带问跃迁由I啦 的直接跃迁变 样品制备采用高频溅射技术 将 Q 粉 (纯度 为间接跃迁．基本吸收边缸移；随磁性增强，局域态尾变宽．带 为99％)压成圆片，高温烧结成 IQ 靶，其直径为 隙变窄。 70nan，厚为 3mm。在其表 面镶嵌 Fe片 (纯度为 关键词：颗粒膜；磁性；光学性质 中图分类号：c啦 54 文献标识鸸：A 99％)，作为溅射用靶，通过改变二者的面积比来控制 文章编号：1008—5~ I2oo1)06—0010—04 颗粒膜中Fe的体积分数 (0z 1)。采用表面 经过化学清洁处理、厚为02ram玻璃片作衬底。样 金属复台颗粒膜一般是指具有纳米尺度的金属 品台与靶台距离约为4an，均采用水冷。溅射气体为 颗粒嵌入薄膜基体中所形成的复合材料体系。原则 99．999％的高纯氩气，溅射过程 中的氩气压用 自动压 上，颗粒相与基体材料应互不相溶。纳米颗粒因其离 强控制仪控制在0．7Pa，溅射功率为 200W，沉积速度 子半径接近或小于体相材料激子的波尔半径 ，呈现出 为0、15nm／s，膜厚在50～650rim之间。 许多全新的不同于体相材料的物理和化学特性，在理 用x射线衍射(Ⅺ0)、电子衍射(ED)、透射电子 论和实验上已引起人们的极大兴趣。同时，可 以通过 显微镜(删 )分析样品的物相结构和形态特征。用 选择所嵌人的颗粒和基体的种类，以及通过改变附加 于透射电镜观察的样品大约 50nm厚，镀在铜网支持 自由度(颗粒的尺寸、形状和所占的比例分数等)来制 的碳膜或解离面非常光滑的 cl上。用能散 x射线 备并 “剪裁”出具有不同应用功能的薄膜材料，具有较 谱(Ⅱ)Ax)分析样品成分。用UVB一3O00分光光度 大的基础理论价值和丰富的研究内涵。目前．颗粒膜 计在可见光区域测量了样品的透射谱，测量时在比较 作为一种新型的功能材料，在磁记录、传感器、非线性