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CrNx薄膜的制备及结构分析 第六图书馆 用正交设计法L16设计了五因素四水平共16种工艺,用热阴极离子镀在GCr15块规上制备CrNx薄膜。用X射线衍射议(XRD)分别 对16个试样进行了物相分析及结构分析,用显微硬度计(25g)测试了显微硬度,并对检测结果进行了分析讨论。结果表明:工艺 参数的变化对于CrNx薄膜的制备会产生重要影响。用正交设计法L16设计了五因素四水平共16种工艺,用热阴极离子镀在 GCr15块规上制备CrNx薄膜。用X射线衍射议(XRD)分别对16个试样进行了物相分析及结构分析,用显微硬度计(25g)测试了显 微硬度,并对检测结果进行了分析讨论。结果表明:工艺参数的变化对于CrNx薄膜的制备会产生重要影响。CrNx薄膜 热阴 极离子镀 XRD真空于玉城 赵广彬 晋勇 刘志远 [1]西华大学材料学院,四川成都610039 [2]四川大 学材料学院,四川成都6100642007第六图书馆 第六图书馆 第44卷第 1期 真 空 VACUUM Vo1．44．NO．1 2007年 1月 Jan．2007 CrN 薄膜的制备及结构分析 于玉城 ，赵广彬 ，晋 勇 ，刘志远 (1．西华大学材料学院，四川 成都 610039； 2．四川大学材料学院，四川 成都 610064) 摘 要：用正交设计法 L16设计了五因素四水平共 16种工艺，用热阴极离子镀在GCr15块规上制备CrN 薄 膜 。用X射线衍射议 (XRD)分别对 16个试样进行 了物相分析及结构分析 ，用显微硬度计 (25g)测试 了显微硬 度 ，并对检测结果进行了分析讨论 。结果表 明：工艺参数的变化对于 CrN 薄膜的制备会产生重要影响。 关键词 ：CrN 薄膜 ；热 阴极离子镀 ；XRD 中图分类号 ：TB43 文献标识码 ：A 文章编号 ：1002—0322(2007)Ol一0021—05 Preparation ofCrN thin filmsanditsstructuralanalysis YU Yu—Cheng，ZHAO Guang—bin ，JIN Yong，LIU Zhi—yuan (1．SchoolofMaterialsScienceandEngineeringof XIHUAUniversity，Chengdu610039，China； 2．Schoolof MaterialsScienceandEngineeringof SICHUAN University，Chengdu610064，China) Abstract：OrthogonaldesignwasusedtotheexperimentalpreparationofCrN thinfilmsonthesurfaceofGCr15hlockgage by16hotcathodeionplatingtechnologieswih4levelsand5factors，ie．，L16(4)．Then，andanalysiswasmadetothephase andstructureofthe16samplesbyX—raydiffraction (XRD)，withtheirmicrohardnessestested．Theresultsshowedthatthe changeintechnologicalparametersaffectgreatlythepreparationofCrN films． Keywords：CrN thinfilms；hotcathodeionplating；XRD 第六图书馆 在过去的二十年里 ，过渡族金属氮化物的研究 得 到 了迅速 的发展。各种过渡族金属氮化物，如 TiN、ZrN和 CrN等 由于它们高硬度 、高耐磨 、良好