光盘基片平整度的相移干涉测量方法.pdfVIP

维普资讯 第31卷 第1期 光电工程 Vo1．31．No．1 2004年1月 Opto—ElectronicEngineering Jan，2004 文章编号：1003-501X(2004)01-0029—03 光盘基片平整度的相移干涉测量方法 苏俊宏 2，陈 磊2，朱 日宏2 (1．陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 (西安工业学院)，陕西 西安 710032； 2．南京理工大学电光学院，江苏 南京 210094) 摘要：使用工作波长为10．m的红外激光平面干涉仪对光盘基片的表面面形进行了移相式干涉法 测试，对测试的波面数据进行多项式拟合，并用计算机处理测试结果，实现 了光盘平整度的自动 化测量。所测光盘基片平整度的峰谷值为7．88m，均方根值为2．0m。 关键词：平整度测量；相移干涉术；光盘；红外干涉仪 中图分类号：0439 文献标识码：A Phase—shiftinginterferometrytotheflatnessofacompactdisk SUJun-hong ，CHEN Lei，ZHURi-hong (1．ShanxiProvinceKeyLaboratoryof TechnologyandOpticalTesting， XianInstituteofTechnology，xf 710032，China：2．SchoolofElectronicand OpticalTechnology，NanjingUniversityofScienceandTechnology，Nanjing210094，China) Abstract：Basedonphase—shifting interferometry，thesurfaceshapeofacompactdisk substrate is measuredbyanIR laserflatinterferometerwithoperatingwavelengthof10。6一micron．W i山 thehelpof Zernikepolynomialfittingforhtemeasuredwavefrontandthecomputerprocessingofrmeasureddata， anautomaticmeasurementofrflatnessofthecompactdiskiscardedout．Peak—valleyvaluenadRM S valueofhtemeasuredcompactdisksubsrtateflatnessale7．88一micronand2．0一mi cron，respectively． Keywords：Flatnessmeasurement ； Phase—shiftinginterferometry ； Compactdisk ； Infrarde interferometer 引 言 光盘基片平整度对光盘制作及光盘驱动器的性能有重要影响。因为光学头是在盘面上以0．1ltm精度跟 踪高速(1800～3600r／rain)运动的盘片，受光学头执行机构响应频率所限，过大的表面起伏会造成噪声加大， 甚至跟踪失灵，所以光盘基片平整度测量无论对光盘制作还是对光盘驱动器正常运行都十分重要。 由于光盘制作对各种光盘衬底 (玻璃，PMMA，PC等)有严格的技术要求，如表面平整度、粗糙度 和缺陷密度等几十个参数，所以光盘基片参数的测试对光盘的制作及使用有着十分重要的意义。 光盘表面平整度的可行的测试有几种方法：1)气阻法 l【J。操作简便直观，测量精度 0．1m。 2)通用 激光平面干涉仪法2【】。这种干涉仪应用较广。泛，已有商品化的仪器，精度高达 50(=0．6328~m)。但由于 光盘基片平整度在 10~tm左右，因而视场中出现的干涉条纹多达几十条，