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一般工业技术
维普资讯
第 2期 纳 米 科 技 No.2
2006年4月 Nanoscience&Technology April2006
[编者按]:近年来,以微电子机械系统 (MEMS)为代表的微系统研究已经取得了很大进步,随着集
成度的不断提高,MEMS已经逐渐和纳米技术融合。韩森博士主持 了多个微米 /纳米级MEMS和
MOEMS检测项 目,为微 系统向纳系统的过渡提供了精密的检测手段,奠定了坚实的基础。现将韩
博士最近研究成果刊登如下。
透过封装材料来检验
MEMS和MOEMS的表面特性
韩 森 1,2,3
(1.长春理工大学, 吉林 长春 130022)
(2.美国亚利桑那大学光学科学院, 美国)
(3.美国维易科公司, 美国)
摘 要:已经证实光学轮廓仪能成功地检验未封装MEMS器件的表面特性。可是,大部分器件必须
在不同条件的封装之后,如真空、升高温度或其它特殊环境,才能做最终检验。文章描述了一种新
型的干涉表面轮廓技术,用于在高倍率下透射封装介质来测量器件表面的特性。三项引入技术包
括校正象差和长工作距离的物镜、有效照明系统、色散补偿技术。测试数据表明标准物镜和色散补
偿物镜所测得 的结果极为相近。
关键词:封装材料;干涉表面轮廓技术;MEMS器件;MOEMS器件
中图分类号:TH741 文献标识码:A 文章编号:1812—1918(2006)02—0003—03
0 引言 中,由于色散、象差等问题 旧,透射介质会大大衰
减这种干涉测量的效果。
微电子机械系统 (MEMS)¨1和微光电子机械
本文将提出一个技术改进方案,用来在高倍下
系统(MOEMS)f2l是使用微加工技术将光学、电子、
测量通过透射介质的表面特性,对诸多的影响因素
机械和传感器件等固化在硅片上的集成器件。这
进行优化设计,包括色散补偿、相干JI生影响、厚度变
些器件可以通过批量加工技术生产出来 ,即类似
于集成电路中所用的质量控制方法。目前,MEMS
总成本的约50%一80%被用于最后的封装和检
验。快速、准确的器件检验方法是生产好器件的必
备条件。
从 目前的市场上看,光学干涉轮廓仪是一种
被广泛使用的高速、精确和柔性的仪器(图1)。它
主要被用于检验未封装的MEMS。可是,随着
MEMS的生产需求,器件需要在封装之后再进行
检验。封装的材料可以是普通玻璃、塑料等透明介
质。近几年,低倍物镜已能够透射色散介质成清晰
的象,但为了解决MEMS器件中的关健特性 ,高倍
物镜的需求被提到 日程上来,然而,在高倍检验
收稿 日期 :2006—04—10 图1 经典干涉轮廓仪
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第3卷第2期 专 家论坛 V01.3 No.2
2006年4月 ExpertForum April2006
化的非明感度和照明等,给出标准物镜和色散补偿 如LED、标准的细丝灯泡、二极管等都可以使用。
物镜所测得结果以及MEMS的应用实例。 再用光纤将物镜模块和照明模块连接起来,在被
检样品上产生真正有效的照明光束 。
1 挑战性问题
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