中科院长春所绿色纳米复合高吸水性材料研制成功.pdfVIP

维普资讯 第4卷第 6期 纳米加 工工艺 Vo1．4 No．6 2007年 12月 Nano—processingTechnique December2007 3 结语 Dye—sensitizedSolarCellsfJ1．So1．Energy．Mater．So1． Cells，2007，91，1416—1420． 利用氧脉冲直流反应磁控溅射法在载玻片上 f4】 S．Ohno，Y．Kawaguehi，A．Miyamura，eta1．HighRate 制备了多晶TiO薄膜，该方法能有效消除溅射过 Deposition of Tin —doped Indium Oxide Films by 程中的靶中毒现象，从而大大提高沉积速率。当断 Reactive Magnetron Sputtering with Unipolar Pulsing 氧时间在 30s以上时，薄膜的沉积速率均在 and Plasma Emission Feedback Systems [J]．Sci． Techno1．Adv．Mater．2006，7，56—61． 2．5nm／min以上，而且最大能达到5．5nm／min。沉积 [5】 Y．H．Han，S．J．Jung，J．J．Lee．DepositionofTiO2 速率、晶体结构、表面形貌都很大程度的依赖于氧 FilmsbyReactiveInductivelyCoupledPlasmaAssisted 浓度与断氧时间。沉积速率随氧浓度增加而减小， DC Magnetron Sputtering for High Crystallinity and 随断氧时间增大而增大。当氧浓度为30％时，沉积 HighDepositionRate[J]．Surf．Coat．Techno1．2007，201， 速率随着断氧时间的增大而稳定增加。在氧浓度 5387 ． 较低(10％)、断氧时间较大(≥30s)，也就是沉积速 [6】 M．Ohring．MaterialsScienceofThinFilms[M]．2nd 率较快时，容易形成金红石结构的TiO薄膜，反 edn．，AcademicPress，Singapore，2006，217． 之更易于形成锐钛矿结构。形成金红石和锐钛矿 [7】 M．H．Suhail，G．M．Rao，S．Mohan．DcReactive MagnetronSputteringofTitanium-structuralandOptical 结构的最佳结晶条件分别是氧浓度 30％、To~=30s Characterizat