RF反应磁控溅射纳米晶ZnO薄膜的XRD和XPS研究.pdfVIP

维普资讯 显微、测量、微细加工技术与设备 M icroscope，Measurement，M icrofabrication ＆ Equipment RF反应磁控溅射纳米晶ZnO 薄膜的XRD和XPS研究 刘黎 明．杨培志 (昆明物理研 究所，昆明 650223) 摘要：采用RF反应磁控溅射沉积ZnO薄膜 ，沉积完成后对薄膜进行氧气氛下的原位退火处理 。 薄膜的结晶状况和化学成分分别采用XRD和 XPS进行分析。结果表 明，该薄膜为结晶性能 良好 的纳米晶薄膜 ，具有高度 的C轴取 向性。薄膜的主要成分为ZnO，不存在金属态Zn。采用文中 的工艺方法可获得较高质量的纳米 晶ZnO薄膜。 关键词：纳米晶ZnO薄膜；RF反应磁控溅射 ：原位退火；X射线衍射 ；X射线光电能谱 中图分类号 ：0484．1；TB383 文献标识码 ：A 文章编号 ：1671—4776 (2007)09—0897—03 Study on XRD and XPS ofZnO NanocrystallineThin Films Prepared by RF ReactiveM agnetron SputteringTechnology LIU Li—uring，YANG Pei—zhi (KunmingInstituteofPhysics，Kunming650223，China) Abstract：ZnO thin films were deposited by RF reactive magne~on sputtering technology，then the filmswere annealed in oxygen ambientin situ．The crystallinity and chemicalcompositions were investigated using XRD and XPS．The resultsshow thatthe filmsare nanocrystalline with highly C—axisoriented crystallineparticles．Themain compound ofthefilmsisZnO，andthere is noZn in metalstate．Itprovesthathigh quality nanocrystalline ZnO thinfilmscan be obtained by the technology． Key words：nanocrystallineZnO thin films；RF reactive magnetron sputtering；in situ annealing； XRD：XPS 膜的成膜特性较好 ．常用的薄膜沉积技术 ．如磁控 1 引 言 溅射 、热蒸发 、溶胶一凝胶 、分子束外延 、金属有 ZnO是近年来受到广泛关注的一种多功能半导 机化学气相沉积等，均可用于制备 ZnO薄膜。在 体材料 ．在其研究和应用中，薄膜是主要的形态结 各种薄膜沉积技术中，磁控溅射法 由于成本较低 ． 构。C轴取向性 良好 的ZnO晶体薄膜 ．具有较好 工艺控制性较好 ，可以得到均匀、致密、C轴取向 的热释电 l1]、声表面波 [23、紫外受激发射 [33等 性 良好 的大面积 ZnO薄膜 ．因而被广泛研究和采 特性 。因此 ．C轴定 向生长 的ZnO晶体薄膜 的制 用 ]。 备技术一直是 ZnO研究领域 的一个热点。ZnO薄