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真空镀膜(PVD)工艺介绍 真空镀膜(PVD)工艺知识介绍 编撰：张学章 拟订:张玉立 讲解:刘红彪 2010 01月20日 录 录 1. 空镀膜技术及设备发展; 2. 空镀膜的工艺基本流程; 3.真空镀膜的工艺特性; 4.真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求; 5.真空镀膜工艺关键技术与先进性; 6.真空镀膜新工艺展示; 7.东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍； 前 言 真空镀膜行业兴起背景；随着欧盟RoHS指 令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。传统 高污染之电镀行业已不符合环保要求，必将被 新兴环保工艺取代。而真空镀膜没有废水、废 气等污染，在环保上拥有绝对优势，必将兴起 并普及。 1： 空镀膜技术及设备发展 1. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、 氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、 涂布法、液