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2015-08-31 发布于湖北
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Al-Mn合金镀层的制备与性能.pdf

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Al-Mn合金镀层的制备与性能.pdf

第40卷第2期天津大学学报 V01．40No．2 of Feb．2007 2007年2月 JournalTianjinUniversity AI．Mn合金镀层的制备与性能王吉会，张爱平，王茂范 (天津大学材料科学与工程学院，天津300072) 工艺下A1．Mn合金镀层的表面形貌、成分、结构、厚度、结合力和耐蚀性等进行了研究．实验结果表明，沉积出的m- Mn合金镀层表面光滑并呈网状分布；镀层中的Mn含量(原子分数)在3％～81％间变化，其中Mn以灿·Mn过饱和固溶体形式存在，且按(200)面的结构进行生长．随电镀时间和电流密度的增加，A1一Mn合金镀层的厚度呈线性增大，但膜层与基体的结合力逐渐降低．A1一Mn合金镀层的耐蚀性随沉积电流密度的增加而减小，随电镀时间的延长呈先增大后减小的规律．m．Mn合金镀层的沉积速率、结合力和耐蚀性均高于相同沉积条件下的纯铝镀层。灿．Mn合金 A／din2、电镀时间镀层在A1C1，+LiAlH4+MnCl2有机溶剂体系中的最佳沉积工艺为电流密度0．15～0．50 30—45min．关键词：A1．Mn合金；电镀；有机溶剂体系；微观结构；耐蚀性中图分类号：TQl53．19文献标志码：A 文章编号：0493-2137(2007)02—0221·07 and of AI—Mn PropertiesElectrodepositedAlloyCoating Preparation WANG Mao—fan Ji-hui，ZHANG Ai—ping，WANG of and MaterialScience 300072，China) (School Engineering，TianjinUniversity，Ti锄jin were ontocarbonsteel Abstract：Aluminum-manganesealloycoatingselectroplated byusingAICl3+UmH4+ solvent thesurface and MnCl2organic electrolyte，and resistanceofAI．Mn wereobservedanddetermined．Theresultsshowthatthe corrosion alloycoatings deposited AI—Mn issmoothandnetlike．The 0f withatomicconcentrationof3％—-8％ alloycoating componentmanganese existedinthe withA1．Mn solidsolutionandformedinthe