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H2-O2混合气氛刻蚀制备金刚石纳米晶薄膜.pdf
光 电子 ·激 光
第 卷 第 期 年 月
17 7 Z006 7 Vol.17 No.7 Jul.Z006
Journalo O toelectronics Laser
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H -0 混合气氛刻蚀制备金刚石纳米晶薄膜%
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熊 瑛 !杨保和!吴小国!孙大智!李 明!洪 松
天津理工大学光电信息与电子工程系和薄膜电子与通信器件天津市重点实验室 天津 300191
摘要 提供了在镜面抛光 衬底上沉积平滑的纳米金刚石 薄膜的方法 采用微波等离子体化学
Si NCD
气相沉积 系统 利用 和 为前驱气体 在镜面抛光的 基片上制备了直径为 的
CVD ~ C~Z 4 OZ Si 5 cm
薄膜 用扫描电镜 和共焦显微拉曼光谱分析其表面形貌和结构特点 分析表明 利用这种
NCD SME
方法可以制备出高 Sp3 含量的NCD薄膜 通过与沉积时间加长而沉积条件相同情况下合成的金刚石
微晶薄膜形貌相对比 分析了~ -OZ Z 混合气氛刻蚀制备 NCD 薄膜的机理 分析表明 基底的平滑度对
的刻蚀作用起到重要的影响 在平滑的基底上 含量较少的 的刻蚀作用也很明显 随着基底的平
OZ OZ
滑度下降 混合气氛中 的刻蚀作用逐渐减弱
OZ
关键词 纳米金刚石 薄膜 微波等离子体化学气相沉积 刻蚀机理
NCD CVD OZ
中图分类号! 文献标识码! 文章编号!
TB383 A 1005-0086 Z006 07-0794-04
Fabrication of Nano-cr stal Diamon Film Etched b MixtureGasesof H -0
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