GDARE法制备不同厚度ZnO薄膜的热电性质.pdfVIP

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真空科学与技术学报 第3l卷第3期 OFVACUUMSCIENCEANDn犯HNOLOGY CH叫EsEJOURNAL 2011年5、6月 GDARE法制备不同厚度ZnO薄膜的热电性质 孙海涛1 李成武1 陆 慧¨ 方 彬2林 贤1,王艳南3潘孝仁1 (1.物理系;2.核物理研究所;3.材料科学与工程学院华东理工大学上海2(X)237) ThermoelectricofDifferentThicknessZnOFilmsGrownGas Property by ActivatedReaction Discharge Evaporation XiltOl它111 SunHaita01,Li Bin2,Lin Yannan3,Pan Cheng咖1,LuHui卜,Fang Xianl,Wang Nuc/ear (1.A舯删ofPhysics;2.1na/tuteof Phys/cs; Ch/na 3.boo/oyMater/a/s访髓and勖驴咖,EastUn/ter奶,of/en俚andT∞_hno/ogy,Shangha/21)0:237,Ch/na) The reaction AbslzaetZnOfilmswere depoeitedbygasaisch嘴activatedevaporation(GDAj砸)ongl躺sub一 Oilits micr06tructuresofthe ofthe eonditiomthermoelectricwe陀studied.,111e 8tmtc8.7n陀impacts property dep06ition filmswe陀characterizedwith diffractionandatomicforce showthatthefilmthickness X-my microscopy.‰results affectsitsmicrostructuresand thethicknessofthefilms instance,as increased,the strongly properties.For nano-grains from nnl a thec—axisnormaltothesurface. withsire 30—70 andexhibit v,uyi,lg grew preferredg

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