DCS和PLC系统在HCl合成装置中的应用.pdfVIP

第 49卷 第 1期 石 油 化 工 自 动 化 Vo1．49，No．1 2013年 2月 AUT()MAT10N IN PETR()_CHEMICAL INDUSTRY February，2013 DCS和PLC系统在 HC1合成装置中的应用 李广财，包维俊 (国电宁夏太阳能有限公司，宁夏 753202) 摘要：针对国内HC1合成装置的安全联锁控制、H2与cl2的质量流量配比控制难等问题，通过PLC与DCS相结合的控制方 案，实现安全联锁与模拟量配比的自动控制。装置投用以来，系统运行安全、稳定、可靠 ，所产气体纯度较高；通过完善系统的智 能报警提示功能，减轻了操作人员的劳动强度。 关键词 ：集散控制系统 可编程控制器 质量流量 中图分类号：TP273 文献标志码：B 文章编号：1007—7324(2013)01—0069—02 国电宁夏太阳能有限公司 5kt／a多晶硅项 目 时才会手动停止生产，这样也带来了不安全因素。 于2010年9月份投产运行，该套 HC1合成装置引 如果工艺操作人员稍不注意，可能使 HC1合成炉 用国外先进成套技术，项 目设计通过 DeltaV集散 装置设备损坏或影响产生合格率。 控制系统与PIC系统相结合的控制方案，对现场 基于上述情况，既要生产出合格的高纯度HCI 仪表及阀门进行监测、控制、报警、联锁，实现整个 气体，又要使生产安全、稳定运行，对 HCI合成装 HC1合成装置的自动生产，成功地实现对 HCI合 置 自动控制系统采用DeltaV与 PLC系统相结合 成装置整个生产过程进行安全监控与控制。 的方案来实现。其中的功能分配：DeltaV对 HC1 1 HCI合成装置生产工艺流程 合成装置内模拟量仪表进行监测，同时对调节阀进 HC1气体 由H。和Cl。燃烧生成，H ，Cl。质量 行 自动控制；PLC对 HC1合成装置 内所有数字量 流量 比控制在 1．00：(1．1O～1．15)，在这种情况 信号、控制柜 内供 电系统、通信系统，进行实时监 下过量的H 进料可确保充分燃烧，火焰在钢壳体 测。当其中一个环节出现问题，根据预先设计好的 内的石墨合成装置内向下燃烧，HC1气体的合成 联锁逻辑条件程序立即对该套 HC1合成装置紧急 及其冷却均在合成装置 内完成。干燥的H。和Cl 停车，以免损坏设备及给生产带来不安全因素。 分别来 自制氢装置和液氯气化装置，分别经过缓冲 2．1 CI2，H2质量流量配比采用双 闭环流量 比值 罐稳压后进入合成炉入 口，在合成炉内燃烧生成 控制方案 HC1气体，再从合成炉底部导出，经过冷凝器、除 双闭环比值控制系统中主流量为H ，副流量 雾器、加热器、HC1气体干燥装置 ，将所生产 出的 为Cl。若主流量受到干扰发生波动，则主流量闭 合格的HC1气体经过压缩机压缩后送人下一个所 环控制回路对实际值进行定值控制，使主流量始终 需装置。其中剩余的HC1气体从合炉底导出后可 稳定在给定值上下，同时副流量控制闭环回路也会 按产量需求直接到降膜吸收器制备高纯度盐酸。 随主流量的波动进行调整；当副流量受到扰动发生 2 DeltaV和PLC技术在控制系统中的设计 波动时，副流量控制闭环回路对实际值进行定值控 在 HC1合成过程中，传统的控制手段是根据 制，使副流量始终控制在给定值附近，而主流量控 火焰的颜色，手动调节Cl，H 质量流量。由于在 制回路不受副流量波动的影响。从而使主流量控 大型化工企业所需 HC1气体量比较大，