光刻机工作台超精密运动与同步控制.pdfVIP

第47卷第 11期 机 械 工 程 学 报 V0l1．47 NO．11 2011年 6月 JOURNALOFMECHANICALENGINEERING Jun． 20l1 DoI：10．3901／JM E．2011．11．185 光刻机工作台超精密运动与同步控制术 滕 伟 柳亦兵 穆海华2 (1．华北电力大学机 电工程研究所 北京 102206； 2．华中科技大学机械科学与工程学院 武汉 4300741 摘要：以同步扫描的运动性能为 目标，研究针对步进扫描投影光刻机工作台的超精密运动与同步控制策略。结合工作台的结 构特点，提出一种粗、微复合运动控制方法，即：微动台纳米级微动，粗动台微米级跟随运动：以硅片台、掩模台的三阶轨 迹规划与轨迹重叠为基础，进行扫描过程中的同步状态规划：为实现纳米级的同步运动精度，进行硅片台与掩模台的动态特 性比较，在此基础上提出工作台交叉反馈的同步控制策略，使掩模台实时跟踪硅片台的运动趋势，并设计同步误差模型进行 运动