基于回归正交设计ICP刻蚀机工艺腔室流场特性分析.pdfVIP

第 卷 第 期 半 导 体 学 报 ２９ ４ 犞狅犾．２９ 犖狅．４ 　 　 　 　 　 　 年 月 ， ２００８ ４ 犑犗犝犚犖犃犔犗犉犛犈犕犐犆犗犖犇犝犆犜犗犚犛 犃 狉．２００８ 狆 基于回归正交设计的犐犆犘刻蚀机工艺 腔室流场特性分析  程 嘉 朱 煜 段广洪 王春洪 　 　 　 　 　 （清华大学精密仪器与机械学系 制造工程研究所，北京 １０００８４） 　 摘要：为研究感应耦合等离子体（ ）刻蚀机工艺腔室结构对流场特性的影响，采用回归正交设计方法对腔室半径、腔室 犐犆犘 高度、进气口半径以及进气流量 个设计参数进行试验设计，利用商业软件 建立 刻蚀机工艺腔室二维流 ４ 犆犉犇犃犆犈＋ 犐犆犘 场仿真模型 定义了静电卡盘上方气压分布均匀性评价函数，通过对试验结果的回归分析，确定了关键参数对气压分布均 ． 匀性影响程度的定量关系，并由此建立了拟合度较高的二次回归方程 结果表明腔室高度为最显著影响因素 经过验证可 ． ． 见，回归方程的计算结果与仿真分析结果保持了较高的一致性，可以为结构与工艺条件相近的刻蚀机、化学气相沉积 （ ）设备以及氧化／扩散系统的结构研究与设计提供参考 犆犞犇 ． 关键词：感应耦合等离子体；回归正交设计；犆犉犇犃犆犈＋；工艺腔室 ： 犘犃犆犆 ５２６５ 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） 犜犖４０５９８ 犃 ０２５３４１７７２００８０４０７８００５ 　　　 　　　 化范围，如果对每个参数都相互搭配进行全面分析，即 引言 使利用计算机其计算量也是相当惊人的 因此，本文采 １ ． 　 用回归正交设计的方法对仿真试验参数进行合理安排， 电子信息产业的蓬勃发展离不开 装备设计与制 利用回归正交试验表任意两列的正交性，在所有试验方 犐犆 造技术的不断进步 相当多的 装备具有工艺腔室结 案中均匀地挑选出代表性强的试验方案 正交设计方法 ． 犐犆