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电沉积条件对Fe—Ni—P合金沉积的影响 陈志明，王森林 (华侨大学材料科学与工程学院，福建泉州362021) [摘要]为促进Fe—Ni—P合金电沉积层在信息存储材料和屏蔽材料中的应用，研究了pH值、 电流密度等工艺条件对合金沉积速度、组成、表面形貌和结构的影响。结果表明：当镀液主盐物质的 61．03％下降到8．07％，P从32．05％下降到27．46％；随电流密度从20mA／cm2增加到50mA／cm2，镀 23．35％。用x射线衍射和扫描电镜研究了镀层的结构和表面形貌，试验表明，所有镀层均呈非晶态 结构，受工艺条件影响较小；随pH值从2．0增加到4．0，镀层表面的圆形颗粒粒径逐渐增大。 [关键词] 电沉积；Fe—M—P；工艺条件；性能 [中图分类号]TQl53．2[文献标识码]A 0 0．09moL／L mo∥L 引 言 f’eS04‘’7H2U，O．5 H3803， 0．15—0．25moL／L moL／L Na3C6H507。2H20，0．1 Fe．Ni．P合金的磁性能突出，可望应用于信息 存储材料和屏蔽材料。1964年W．0．Freitag等¨1 60℃，镀液用分析纯试剂和蒸馏水配制，pH值用 研究了电沉积Fe—Ni—P合金矫顽力与膜厚的关系。 10％(质量分数)Na0H调节。试样经打磨抛光、除 近年来，K．Sridharam等嵋。开展了非晶Fe．M—P合 油、酸洗、活化后再进行电镀。用于xRD测试的试 金电沉积研究，结果表明，Fe．Ni—P合金沉积层的 mm×18mm×3 样为17 mm的A3钢片，其余试验 组成变化较大，随电流密度增加，镀层铁含量增加， cm×1 的试样均为1 em的铜片。 合金的组成取决于镀液组成和电流密度，镀液pH 值对合金中的磷含量有显著影响。他们用电化学 1．2测量仪器和方法 方法研究了Ni—Fe—P合金的共沉积行为¨o，指出磷 沉积速度采用称重法测量。A3钢镀覆2．0 沉积抑制了铁的沉积，但促进了镍的沉积；镀液pH h获得的镀层用扫描电镜(s一3500N)自带的x射 值的降低有利于P的沉积。高诚辉等∽o研究了电 线散射能谱(7201)分析其组成。x射线衍射 沉积Fe—Ni．P合金的结构热稳定性、磁性和耐磨(xRD)试验在D8Advance型x射线衍射仪上进 性，结果表明，随着铁含量增大，合金硬度、耐磨性、 行，扫描速度8(。)／min，cuK。射线。 晶化温度和磁性能均提高。本工作将在上述基础 2结果与分析 上较全面地研究该合金的电沉积工艺以及沉积条 件如镀液pH值、主盐物质的量比和阴极电流密度 2．1 工艺条件对沉积速度的影响 等对Fe．Ni—P合金组成和表面形貌的影响。 图1给出了配位剂柠檬酸钠浓度为0．2 1试验方法 1．1 Fe-Ni-P合金镀层的制备 pH值对沉积速度的影响。可以看出，随着pH值 Fe—Ni．P合金沉积试验的镀