Cu薄膜应力的计算机模拟与表征.pdfVIP

第24卷第1期 甘肃科技 V钒．24No．1 2008年1月 and Jan． 2008 GansuScience Technology Cu薄膜应力的计算机模拟与表征 孙治国h2，杨莉h2． (1．兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室； 2．兰州理工大学材料科学与工程学院，甘肃兰州730050) 擒要：用MonteCarlo法以Cu为例对薄膜生长过程中薄膜应力进行计算机模拟。将分子动力学法引入到连续体 薄膜的生长过程中，通过面上的假想力来实现薄膜应力的计算机模拟．模拟结果表明．在一定原子入射率和基底温 度下，在薄膜厚度极其薄的情况下，薄膜应力随薄膜平均厚度的增加而增大，薄膜应力随薄膜表面粗糙度的增大也 增大，薄膜应力一厚度随原子沉积个数趋向于线性关系。并且模拟了薄膜应力与薄膜表面粗糙度以及沉积时问的关 系曲线。 关键词：分子动力学；MonteCarlo法；薄膜应力；薄膜厚度；薄膜表面粗糙度 中图分类号：THl2 ， 模拟实验可以完全控制全部输入数据和在真实实 1 引言 验中有时难以具体确定的各种外部影响因素．另一 薄膜应力是薄膜重要的力学性质，它对薄膜的 个优点是，不需要引入任1何额外的外部影响因 实际应用很大。对薄膜应力进行计算机模拟不仅 素，便有可能全面研究过程物理模型的所有细节． 考虑薄膜中单个原子的各种现象，而且研究由许多 此外，计算机模拟对实验还有重要的指导意义，计 粒子组成的集合体现象．在连续体薄膜结构中，某 算机模拟主要包括下面三个步骤： ， 一点应力的定义要考虑到这一点周围无穷小体积 (1)根据理论分析建立模型； 内应力存在具有均一性．在微观层次上对薄膜应力 (2)利用计算机科学与技术对模型进行计算， 进行计算机模拟，我们需要确定一个体积内所包括 求解，分析并得到相关的结果； ． 的所有原子具有相同的应力。 (3)将所得结果应用于实验． 传统上对薄膜应力的研究主要通过实验的方 对于薄膜材料的研究，研究者研究最多的是薄 膜的生长机理，薄膜的表面粗糙度，相对密度以及 法来测量薄膜应力r13E2][5。，这样浪费大量的人力与 成核率[6叫]。据报道，实验上已经发现薄膜应力与 财力，有时为了获得必要的数据资料，不得不采取 薄膜的表面粗糙度和薄膜厚度以及原子沉积时间 彻底断裂的方法来研究样品。 存在着某种联系[g]，本文拟在利用计算机模拟的方 近年来，计算机模拟作为一个新兴的研究领域 法对薄膜生长过程中薄膜应力作进一步探索。文 越来越受到研究者的关注，计算机技术的飞速发展 中提出了一种在微观层次上将薄膜应力程序化的 为材料科学的理论研究提供了良好的条件。对材