PVA／HEC偏光膜的制备与偏光性能研究.pdfVIP

维普资讯 Vo1．12 高分子材料科学与工程 No．1 1996_茸 1月 POLYMERICMAI’EI{IALSSCIENCEAND ENGINEERING Jan．1096 PVA／HEC偏光膜的制备与偏光f生能研究 1l 张公正 朱孝川u四十宫能德 d 工大引 与计 院 。北京 ㈣ 柑 杠 业大 『 摘 要 t ’ 、 研 完了采用聚乙烯醇 (pVA)、羟 乙基 纤维素(IIEC)为主体村料 ．fq台碘化钾(KI)．或者辞化锂 (L订}用过氧化氩 (Ik凸)氧化帝f春PVA／IIEC偏光膜。宴验结果表明．选j丰{．80gPVA．O．20gtrEC 中含有 5mmolKI的基膜．用5 H：O2水溶液氧他 5s．盎拉仲，干燥 可制彝票韧性能好的pVA,／ 仰三c偏光膜 。根据实验结果 ．提出了新法PVA／NEC膜与l2彤成墙 台枷 的机理模型 关键词器 堕喜呈 丝垫垫避!坠 f行 惶 、 选择一定结构的聚合物 或其混合物 ，可制_缶兼有柔韧性好、耐久、耐热、抗湿多种优异性 能的聚台物偏光膜 ．扩大了偏光膜的使用范围 在以前的工作中[．我 ]曾介绍了--fit新的制 备偏光膜的方法．它是将预先溶有碘化金属盐的PVA基膜在氧化液中氧化．经拉仲干燥后得 到的。用这种方法 ．PVA基膜均匀呈现蓝邑．避免了常规方法染色不均所造成的田扰 有可能 简化工业生产过程，降低生产成本。近年来已有文献介绍用常规法生产 PVA偏光膜．提高 其耐久．抗湿热性能口 。月】新法制备PVA／HEC偏光脱．寻求合适混合体系改善PVA偏光膜柔 韧性及其它性能尚未见有详细报导。本文用5 H!Oz水溶液氧化含有KI(或Lil)~9PVA／HEC 基膜 ．并研究了氯化时间，拉仲比．羟乙 纤维索的用量等诸多因素对偏光性能的影响．取得了 初步的实验结果。 l 实验部分 1．1 实验用原料 聚乙烯醇(PVA)：型号 117，日本Kurarc株式会社产品 羟乙基纤维素(HEC)：日本Kishida 化学株式会社产品。碘化钾 (K1)、碘化锂 (Lil·2HO)、硼酸( Bo)：均为特级，日本Kishida化 学栋式会社产品。过氧化氢(H。 )：特级 ．日本三菱瓦斯化学株式会社产品。 1．2 试样制备 (a)将PVAHEc、KI(或 Lil)准确休取后 ．于8O_C溶解在一定量的水中，充分混合后．冷却 到室温，倒在水平的聚乙烯扳上，40Clt压干燥 12h．得膜厚约60~70#Ill的PVA／HEC基膜 。 (b)将基膜放入5 Hz0z水溶液中氧化．氧化}a度为 O℃，氧化时间j～6OS (c)被氧化过的基膜装在拉膜肌上．在 10’C5 HBOs水溶液中单向拉仲．拉仲比3～6。 (d)被拉仲的基膜连同拉膜机一起放入 10C j HsBO；水溶液浸泡 4nlln后．常压 10C 收稿 日龌 ；199—08—22 维普资讯 高分子材料科学与工程 干燥 5rain，得 PVA／HEC偏光膜。 1．I 性能测试 吸收光谱魄线和透过率用 日本岛津UV．2200分光光度计测量，偏光度根据式 V( )= 、 j 了 X100计算，】o为 2枚偏光片平行组合的透过率，】。。为2枚偏光片垂直 组合的透过率。 玻璃化温度()用日本MacScienceCo．Model·3100热分析仪测定，升温速度 10K／rain X射线衍射分析使用 日本Rigaku13~nkiCo．GF-D2型X射线衍射仪测定 用日本电子(株)制JSM 5400扫描电子显馓镜观察eVAIHEC偏光膜的表面。 2 结果与讨论