钡掺杂对氧化锌薄膜特性之影响.pdfVIP

鋇摻雜對氧化鋅薄膜特性之影響 95年鼓勵型計畫 水瑞鐏 國立虎尾科技大學 電子工程系 摘要 : 使用射頻磁控濺鍍系統將摻雜氧化鋇之氧化鋅薄膜沉積在石英基板上， 經由調變不同鋇摻雜濃度，可控制氧化鋅結晶構造與薄膜表面結構，薄膜結晶方 向與表面微結構之檢測是利用X光繞射儀(XRD)、掃描式電子顯微鏡(SEM)與原子 力顯微鏡(AFM)，由實驗發現氧化鋅薄膜晶粒尺寸隨著鋇摻雜濃度增加而增加， 氧化鋅薄膜摻雜鋇濃度在2莫耳%時，晶粒大幅成長且完整平滑，薄膜孔洞率提 升，當摻雜鋇濃度在3莫耳百分比時，便有小晶粒增生析出，小晶粒成長可填補 孔洞缺陷。 關鍵字: 氧化鋅，氧化鋇，射頻磁控濺鍍系統，石英基板 (1) 前言 限制