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磁控溅射 C靶电流对 Cr／C和 Cr／C／N复合镀层组织和性能的影响 55 磁控溅射 C靶 电流对 Cr／C和 Cr／C／N 复合镀层组织和性能的影响 E{{ectsofC CurrentonM icrostructuresand PropertiesofMagnetronSputteredCr／C andCr／C／N CompositeCoatings 贾贵西 ，李 言 ，李洪涛 ，蒋百灵。 (1西安理工大学 机械与精密仪器工程学院，西安 710048； 2西安理工大学 材料科学与工程学院，西安 710048) JIA Guixi，LIYan ，LIHong—tao ，jIANG Bai—ling (1SchoolofMechanicalandInstrumentalEngineering，Xi’anUniversity ofTechnology，Xi’an710048，China；2SchoolofMaterials，Xi’an UniversityofTechnology，Xi’an710048，China) 摘要 ：利用控溅射技术 ，通过改变溅射 c靶 电流工艺参数 ，在 45 钢上制备 出Cr／C和 Cr／C／N复合镀层 。用能谱仪 (EDS)、X射线衍射仪 (XRD)、扫描 电子显微镜(SEM)检测镀层的微观组织；用 HX一1000型维氏显微硬度计、球一盘摩擦 磨损试验机 (POD)、光学显微镜 (OM)测试镀层 的力学性能。结果表明：随C靶 电流增加 ，镀层微观结构都变得更加均 匀和致密 ，硬度在变大，韧性在提高，耐磨性明显提高；所获 c电流为 1．2A的镀层有优异的摩擦磨损性能；Cr／C／N镀层 综合力学性能优于 Cr／C镀层 。 关键词 ：磁控溅射 ；c靶电流 ；Cr／C镀层 ；Cr／C／N镀层 ；性能 中图分类号：TG115；TB34 文献标识码 ：A 文章编号：1001—4381(2011)03—0055—05 Abstract：Usingmagnetronsputteringtechnique，Cr／CandCr／C／Ncompositecoatingswereprepared onthesuhstrateof45 steelbyadjustingC targetcurrentprocessparameters．Coatingmicrostruc— tureswerecharacterizedbyenergydispersivespectroscopy(EDS)，X—raydiffraction(XRD)andscan— ningelectronmicroscopy (SEM )．ThemechanicalpropertiesweretestedbytheHX 1000typemicrov— ickershardnesstester，theball—discfrictionandweartesterandtheopticalmicroscopy(OM)．There— sultsshowedthat，withtheCcurrentincreased，Cr／CandCr／C／N coatingsmicrostructuresbecame moreuniform anddense，hardnessincreased，toughnessstrengthened，andwearresistancemarkedly improved．ThecoatingofC current1．2A hasexcellentfrictionandwearproperties．Thecomprehen sivelymechanicalperformanceofCr／C