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CeO_2缓冲层热处理对Tl-2212薄膜超导特性的影响.pdf
第38卷第5期 人 工 晶 体 学 报 v。1．38No．5
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谢清连1”，游峰2，黄国华1，李建映1，左
季．鲁2，张玉婷2，赵新杰2，方兰2，阎少林2
(1．广西师范学院物理与电子工程学院，南宁530001；2．南开大学信息技术科学学院，天津300071；
3．中国电子科技集团公司第16研究所，合肥230043)
膜在流动氧环境中退火，表面形貌发生显著的变化；CeO：薄膜在最佳条件下退火后，可获得原子级光滑表面，结晶
质量明显提高。实验结果表明，缓冲层的结晶质量和表面粗糙度与T1-2212薄膜的超导特性密切相关。在经过最
佳条件退火后的CeO：缓冲层上制备了厚度为500Bin无裂纹的TI-2212超导薄膜，其临界转变温度(瓦)达到107
MA／cm2(77K，0 K，10GHz)。
K，液氮温度下临界电流密度(Jo)为3．9 T)，微波表面电阻(R。)约为281衄(77
关键词：TI-2212超导薄膜；缓冲层；AFM ，
中图分类号：0484．1 文献标识码：A
Effects Treatmentsof Buffer
of
Heating Ce02 Layers
on ofTI-2212Films
SuperconductingProperties
XIE
Qing—lianl’2，YOUFen92，HUANGGuo—hual，LI Ta03，
Jian—Yin91，ZUO
HE Shao—lin2
Min92，．IILu2，ZHANGYu—tin92，ZHAOXin-jie2，FANGLan2，YAN
of andElectronic TeachersEducation
(1．CoUegePhysics Engineering，Guangxi University，Nanning530001，China；
ofInformationTechnicalScience，Nankai
2．College University，Ti舭jin300071，China；
3．ChinaElectronnics No．16Research
TechnologyGroupCorporation Institute，Hefei230043，China)
7November 9
(Received 2008，acceptedJanuary2009)
effectof treatmentonthesurface structureof
Abstract：The
hilghtemperature morphology，thephase Ce02
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