Gd_2O_3Eu透明厚膜的制备及其发光特性.pdf

第30卷，第3期 光谱学与光谱分析 201 and March，2010 0年3月 SpectroscopySpectralAnalysis Gd203：Eu透明厚膜的制备及其发光特性 顾 牡，周 凤，刘小林，倪 晨，黄世明，刘 波 同济大学波耳固体物理研究所，波与材料微结构实验室，上海200092 摘要以无机稀土氧化物为原料、2一甲氧基乙醇为溶剂、PVP为胶粘剂、PEG200为有机分散剂，采用溶 胶一凝胶工艺成功制备出Gdz03：Eu3+透明闪烁薄膜。通过2次涂复，薄膜厚度达到了1．5肛m，膜层均匀、 无散射颗粒、无裂纹，可见光区的透射率约为80％。研究表明PVP在厚膜烧结过程中可以松弛膜的结构、 减小应力的出现，避免厚膜开裂，同时还可以提高溶胶的粘度，在厚膜制备中起到了关键作用。此外，我们 还研究了Gdz03：Eu3+闪烁薄膜的激发、发射和发光衰减时间谱，结果表明，该薄膜发光性能优良，可初步 满足x射线成像用闪烁薄膜的要求。 关键词Gdz03：Eu厚膜；溶胶一凝胶法；PVP胶粘剂；发光特性 中图分类号：0482．3文献标识码：A ：Eu3+溶胶一凝胶厚膜m]，但在制备工艺中涂复次数较多， 引 言 不易控制，膜层也容易开裂。一般来讲，闪烁薄膜的厚度需 要兼顾X射线的吸收和成像的空间分辨率，通常取1～5舯 X射线成像在生命科学、核聚变与等离子体诊断、物质 为宜[15]。因此，如何获得透明、均匀、无裂纹的Gd：03： 微结构和天体物理等诸多方面有着十分苇要的应用[1’2]。近Eu3+X射线闪烁厚膜已成为研究的关键。 ‘ 年来随着x射线成像特别是X射线断层成像技术(X-ray近年来采用一套独市的溶胶一凝胶ij孥膜制备工艺和后处 CT)的发展睁6|，运用x射线一可见光转换屏，人们发展了可 理技术，我们成功制备出了Gd。03：Eu3+透明薄膜‘12．1“。 用于X射线数字成像的x射线电荷耦合器件(X射线CCD)。 本文在此基础卜，以稀土氧化物为原料、2一甲氧基乙醇为溶 目前的x射线转换屏一般都采用荧光粉制备，由于受到荧光 粉颗粒散射的影响，X射线CCD的空间分辨率一般在几十制，并对其发光性能进行了分析。 微米[7．8]，制约rx射线CCD空间分辨率的进一步提高，同 时由于粉末的热导率差，对器件的使用和寿命带来了不利的 1实验过程 影响。为了克服E述困难，人们又设想改用透明无机薄膜闪 烁材料作为x射线一可见光转换介质【9J。 Gd203：Eu抖具有密度高(7．64g·cIn-3)、对x射线吸 收强、光产额高(18．5×103photons／MeV)、化学性能稳定以 10％)混合，并加入少量稀硝酸使氧化物完全溶解，搅拌回 及与光电器件波长匹配好等特点，非常适合作为透明闪烁薄 流l 膜加以研究Ll州引。而溶胶一凝胶法拥有材料合成温度低、掺杂 均匀、结构可控、工艺简便等特点，有望成为制备透明无机 闪烁薄膜的一条有效途径。2002年Garcia-Murillo等采用提 尔比以单体计算。继续搅拌【Ⅱ1流2h，陈化若干天，即得到透 拉法首次制备出了透明的Gd203：Eu3+溶胶一凝胶闪烁薄膜， 明稳定的溶胶。 然而尽管薄膜被涂复了50层，但薄膜厚度仍仪达约500 500